Study on control of plasma oxidation at an atomic level

原子水平等离子体氧化控制研究

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原料分子による膜中の化学結合状態の制御
利用原料分子控制薄膜中的化学键合状态
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Masanori Shinohara;Naoki Maruno;Yoshiki Takami;Susumu Takabayashi;Yoshinobu Matsuda;篠原正典,冨永泰佑,下村勇登,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴;篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴
  • 通讯作者:
    篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴
炭素化水素プラズマによる堆積反応の赤外吸収分光計測
碳酸氢等离子体沉积反应的红外吸收光谱测量
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Shinohara;T. Tominaga;H. Shimomura;T. Ihara;Y. Yagyu;T. Ohshima;H. Kawasaki;篠原正典,冨永泰佑,下村勇登,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴;末永尚己,川田千春,篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴;冨永泰佑,下村勇登,篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴;下村勇登,冨永泰佑,篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴;篠原 正典,猪原 武士,柳生 義人,大島多美子,川崎 仁晴
  • 通讯作者:
    篠原 正典,猪原 武士,柳生 義人,大島多美子,川崎 仁晴
49.Infrared spectroscopic study on hydrogenation process of Si(100) surface during hydrogen plasma exposure
49.氢等离子体暴露过程中Si(100)表面氢化过程的红外光谱研究
  • DOI:
    10.1109/tps.2016.2595599
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Masanori Shinohara;Naoki Maruno;Yoshiki Takami;Susumu Takabayashi;Yoshinobu Matsuda
  • 通讯作者:
    Yoshinobu Matsuda
プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 (分担)
了解反应机制和过程控制/薄膜沉积示例,以优化等离子体 CVD 中的薄膜沉积条件(作业)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    伊東和樹;中野大和;原正典;松田良信;篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴
  • 通讯作者:
    篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴
原料分子によるプラズマプロセスの制御について
使用原材料分子控制等离子体过程
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Masanori Shinohara;Naoki Maruno;Yoshiki Takami;Susumu Takabayashi;Yoshinobu Matsuda;篠原正典,冨永泰佑,下村勇登,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴;篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴;篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴;篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴;篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴
  • 通讯作者:
    篠原正典,猪原武士,柳生義人,大島多美子,川崎仁晴
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