A Deep-Trench Optical-Detector Integrated Early Vision Processor and an Application to Motion Detection

深沟光学探测器集成早期视觉处理器及其在运动检测中的应用

• 批准号: 20686024
• 负责人: MITA Yoshio
• 金额: $ 16.22万
• 依托单位: The University of Tokyo
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
• 财政年份: 2008
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2008 至 2010
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20686024/
• 关键词: 電子デバイス・集積回路; MEMS; マイクロ・ナノデバイス; 光物性; 三次元形状検出; スマートセンサ情報システム

An integration scheme is proposed to provide active electron devices (such as diodes and transistors) integrated MEMS-fabricated vertical 3-D surfaces, which have long been used just as a mechanical structure. The team believes that integration of active devices is the key technology to provide much higher functionality to MEMS. A special attention has been paid to the special-DRIE-fabricated nanometric (100nm-class) surface-corrugated PN-junctions to obtain light polarization dependence. An extinction ratio 1:4 has been reported in the conference then ameliorated up to 1:20.

提出了一种集成方案，以提供集成有源电子器件（例如二极管和晶体管）的 MEMS 制造的垂直 3D 表面，该表面长期以来仅用作机械结构。该团队认为，有源器件的集成是为 MEMS 提供更高功能的关键技术。特别关注特殊 DRIE 制造的纳米（100 nm 级）表面波纹 PN 结以获得光偏振依赖性。会议上报道的消光比为 1:4，后来改进为 1:20。

项目成果

Value-Added VLSI devices by MEMS technology

采用 MEMS 技术的增值 VLSI 器件

• 发表时间: 2011
• 作者: Yoshio Mita; Satoshi Morishita; Isao Mori;Masanori Kubota
• 通讯作者: Masanori Kubota

More-than-VLSI Devices by MEMS Deep Etching Technology

MEMS深蚀刻技术超越VLSI器件

• 发表时间: 2010
• 作者: Yoshio Mita

La Methode "Swing-Probing" Pour la Profilom\`etrie de Microtrous Tr\`es Profonds

微深度轮廓的“摆动探测”方法

• 发表时间: 2009
• 作者: Yoshio Mita; Jean
• 通讯作者: Jean

An Active Swing Probing Method for High Aspect Ratio Deep Hole Profiler

大展弦比深孔轮廓仪的主动摆动探测方法

• 发表时间: 2009
• 作者: Yoshio Mita; Jean
• 通讯作者: Jean

ドライ・ウエットエッチング技術全集

干湿蚀刻技术全集

• 发表时间: 2009
• 作者: 三田吉郎他(分担執筆)