Development of an extreme environment resistive CCD using silicon carbide
使用碳化硅开发极端环境电阻式CCD
基本信息
- 批准号:15H03967
- 负责人:
- 金额:$ 10.57万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2015
- 资助国家:日本
- 起止时间:2015-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
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科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Macroscopic simulations of the SiC thermal oxidation process based on the Si and C emission model
- DOI:10.1016/j.diamond.2019.01.012
- 发表时间:2019-02-01
- 期刊:
- 影响因子:4.1
- 作者:Hijikata, Yasuto
- 通讯作者:Hijikata, Yasuto
SiC半導体が実現する室温電子駆動量子センサ
SiC半导体实现的室温电子驱动量子传感器
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:A. Boussadi;A. Tallaire;M. Kasu;J. Barjon;J. Achard;土方 泰斗,牧野 高紘,佐藤 真一郎,山崎雄一,大島 武
- 通讯作者:土方 泰斗,牧野 高紘,佐藤 真一郎,山崎雄一,大島 武
SiC 中の積層欠陥が単一光子光源の発光波長に及ぼす影響の理論的分析
SiC中堆垛层错对单光子光源发射波长影响的理论分析
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:功刀 遼太;志村 昴亮;中川 宣拓;渡邉 孝信;古川頼誉,土方泰斗,大島武,松下雄一郎
- 通讯作者:古川頼誉,土方泰斗,大島武,松下雄一郎
重イオン照射によるSiC-MOSFET中の誘起収集電荷の発生過程
SiC-MOSFET重离子辐照感应收集电荷的产生过程
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M. Nakano;K. Fujiyama;T. Yanai;M. Itakura;H. Fukunaga;高野 修平,牧野 高紘,原田 信介,土方 泰斗,大島 武
- 通讯作者:高野 修平,牧野 高紘,原田 信介,土方 泰斗,大島 武
Various single photon sources observed in SiC pin diodes
在 SiC pin 二极管中观察到的各种单光子源
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H. Tsunemi;T. Honda;T. Makino;S. Onoda;S-I. Sato;Y. Hijikata;and T. Ohshima
- 通讯作者:and T. Ohshima
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HIJIKATA Yasuto其他文献
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{{ truncateString('HIJIKATA Yasuto', 18)}}的其他基金
Elucidation of formation mechanism of oxidation-induced fault in silicon carbide semiconductors
碳化硅半导体氧化诱发缺陷形成机制的阐明
- 批准号:
24560365 - 财政年份:2012
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$ 10.57万 - 项目类别:
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2205692 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 10.57万 - 项目类别:
Standard Grant
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能量低于切伦科夫光阈值的水发光的医学应用
- 批准号:
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$ 10.57万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)