Leveling nanometer-scale mechanical properties of photopolymerized monomer ultrathin films

光聚合单体超薄膜的纳米级力学性能均化

• 批准号: 15H03860
• 负责人: Nakagawa Masaru
• 金额: $ 11.07万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2015
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2015-04-01 至 2019-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15H03860/
• 关键词: 光ラジカル重合; 超薄膜; ナノギャップ; ナノ加工; ミクロゲル; 原子間力顕微鏡; ドライエッチング; ナノインプリント技術; ナノ材料; 高分子合成; 光化学; 表面・海面物性; 表面・界面物性; マイクロ・ナノデバイス; 表面電位; 材料加工・処理; 微細加工

项目成果

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Surface modification of polyimide laser-drilled screen-printing masks for low-viscosity liquids in print-and-imprint method

印刷压印法中低粘度液体聚酰亚胺激光钻孔丝网印刷掩模的表​​面改性

• 发表时间: 2019
• 期刊: Japanese Journal of Applied Physics
• 影响因子: 1.5
• 作者: T. Nakamura;N. Endo;S. Ito;R. Kuroda;M. Nakagawa
• 通讯作者: M. Nakagawa

重合性液体のシリカナノ空間中での流動性と一桁ナノ造形

二氧化硅纳米空间中可聚合液体的流动性和个位数纳米加工

• 发表时间: 2018
• 作者: 伊東 駿也;粕谷 素洋;栗原 和枝;中川 勝
• 通讯作者: 中川 勝

Improved etching resistance of UV-cured films with/without hydroxy groups by organic/inorganic hybridization through sequential infiltration synthesis and sequential vapor infiltration

通过顺序渗透合成和顺序气相渗透的有机/无机杂化提高了带/不带羟基的紫外线固化薄膜的耐蚀刻性

• 发表时间: 2018
• 作者: Takuya Uehara;Yuki Ozaki;Shunya Ito;Nobuya Hiroshiba;Takahiro Nakamura;Masaru Nakagawa,
• 通讯作者: Masaru Nakagawa,

原原子間力顕微鏡で観察される膜厚sub-100 nmでの光硬化樹脂薄膜における表面弾性率の膜厚依存性

用原始原子力显微镜观察亚100 nm厚度的光固化树脂薄膜表面弹性模量的厚度依赖性

• 发表时间: 2016
• 作者: 矢野 春菜;久保祥一,中川勝;藤浪想;中嶋健
• 通讯作者: 中嶋健