Fabrication and characterization of Si nanostructures by local modification of Si nanosheets

通过硅纳米片的局部修饰制备硅纳米结构并表征

基本信息

  • 批准号:
    25790026
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2013
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2013-04-01 至 2015-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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