Fabrication of transparence micro-mold using thermal oxidation for nano-imprint

利用热氧化纳米压印透明微模具的制作

基本信息

批准号：
23760119
负责人：
NODA Daiji
金额：
$ 2.91万
依托单位：
Nagoya University (2012)University of Hyogo (2011)
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2011
资助国家：
日本
起止时间：
2011 至 2012
项目状态：
已结题

项目摘要

Recently, X-ray phase imaging with X-ray gratings has been studied. I propose the new low cost fabrication process using Si mold using ICP-RIE and nano-imprint techniques. After thermal oxidation, Si micro-mold patterns were obtained until the bottom of high aspect ratio silicon dioxide microstructures. And, I tried the resin forming using fabricated Si mold. In these results, I obtained good grating patterns with submicron width. These demonstrations of thermal oxidation are promising method for high precision transparence imprint mold.

最近，研究了带有X射线光栅的X射线相成像。我建议使用ICP-RIE和纳米印刷技术使用SI模具进行新的低成本制造工艺。热氧化后，获得Si微型模式，直到高宽高比二氧化硅微结构的底部为止。而且，我尝试了使用捏造的Si模具形成树脂。在这些结果中，我获得了良好的光栅模式，具有亚微米宽度。这些热氧化的证明是高精度透明烙印模具的有希望的方法。

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Siドライエッチングを用いたタルボ干渉計用回折格子の作製

利用硅干法刻蚀制作塔尔博特干涉仪衍射光栅

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
Daiji Noda;Atsushi Tokuoka and Tadashi Hattori;中村翔,瀬戸雅宏,山部昌;野田大二,徳岡篤,服部正;中村翔，瀬戸雅宏，山部昌;野田大二,徳岡篤,香取めぐみ,南山康人,山下健治,西田諭史,服部正;中村翔,瀬戸雅宏,中島健太,打越伸一,山部昌;中村翔,瀬戸雅宏,中島健太,打越伸一,山部昌;野田大二,徳岡篤,服部正;中村翔，瀬戸雅宏，中島健太，打越伸一，山部昌;野田大二,徳岡篤,服部正;中村翔，瀬戸雅宏，中島健太，打越伸一，山部昌;徳岡篤,矢代航,野田大二,服部正
通讯作者：
徳岡篤,矢代航,野田大二,服部正

X 線タルボ干渉計用大面積 X 線格子の作製

X射线Talbot干涉仪用大面积X射线光栅的制作

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
Daiji Noda;Atsushi Tokuoka and Tadashi Hattori;中村翔,瀬戸雅宏,山部昌;野田大二,徳岡篤,服部正;中村翔，瀬戸雅宏，山部昌;野田大二,徳岡篤,香取めぐみ,南山康人,山下健治,西田諭史,服部正
通讯作者：
野田大二,徳岡篤,香取めぐみ,南山康人,山下健治,西田諭史,服部正

Si ドライエッチングによる X 線格子の作製

硅干法刻蚀制作X射线光栅

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
Daiji Noda;Atsushi Tokuoka and Tadashi Hattori;中村翔,瀬戸雅宏,山部昌;野田大二,徳岡篤,服部正;中村翔，瀬戸雅宏，山部昌;野田大二,徳岡篤,香取めぐみ,南山康人,山下健治,西田諭史,服部正;中村翔,瀬戸雅宏,中島健太,打越伸一,山部昌;中村翔,瀬戸雅宏,中島健太,打越伸一,山部昌;野田大二,徳岡篤,服部正
通讯作者：
野田大二,徳岡篤,服部正

Si 構造体への直接めっきによる高アスペクト比金属構造体の作製

通过在硅结构上直接电镀制造高深宽比金属结构

DOI：
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
0
作者：
Tomonori Kato;Genki Higashijima;Takanori Yazawa;Tatsuki Otsubo;Yusuke Nozaki;Katsutoshi Tanaka;徳岡篤,野田大二,服部正
通讯作者：
徳岡篤,野田大二,服部正

Fabrication of Si Mold Using ICP Etching for X-ray Diffraction Grating

X射线衍射光栅ICP刻蚀硅模具的制作