Development of high stability and high reliability GEM by the conductive polymer coating

采用导电聚合物涂层开发高稳定性、高可靠性的GEM

• 批准号: 23540354
• 负责人: SEIICHI Nakamura
• 金额: $ 1万
• 依托单位: High Energy Accelerator Research Organization
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011-04-28 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23540354/
• 关键词: RE-GEM; 短絡抑制; 導電性高分子; ウェットエッチング; 銀ナノ粒子焼結膜; レーザエッチング; KrFレーザ; REGEM; PEDOT/PSS; メラミン樹脂; 微細加工; 密着性; 銀ナノ粒子; エキシマレーザ加工; 表面改質; 硫酸; DEPOT/PSS; ポリイミドフィルム

项目成果

MPGDのための導電性素探索 III /REGEMの実用化に向けて

MPGD III 的传导性基本搜索/REGEM 的实际应用

• 发表时间: 2014
• 作者: T. Aso;W. Takase;G. Iwai;T. Sasaki;Y. Watase;Y. Maeda;T. Yamashita;T. Akagi;H. Shuuichi;T. Nishio;S.Y. Cai;T.C. Chao;E. Yen;T.H. Wu;Y.T. Lin;郡 和範;中村誠一，上原秀雄，幅淳二
• 通讯作者: 中村誠一，上原秀雄，幅淳二

Electro conductive polymer complex PEDOT/PSS to be coated on film for RE-GEM

导电聚合物复合物 PEDOT/PSS 将涂覆在 RE-GEM 薄膜上

• 发表时间: 2011
• 作者: S. Nakamura( KEK );H. Uehara ( RAYTECH-inc. );J. Haba ( KEK )
• 通讯作者: J. Haba ( KEK )

特許文献による導電性高分子コーティング（III)/REGEMに向けて～レーザ加工～

根据专利文献〜激光加工〜的导电聚合物涂层（III）/REGEM

• 作者: T. Fukuda;S. Fukunaga;H. Ishida;K. Kodama;T. Matsuo;S. Mikado;S. Ogawa;H. Shibuya;J. Sudo;中村誠一，上原秀雄，幅淳二
• 通讯作者: 中村誠一，上原秀雄，幅淳二

特許文献による 導電性高分子コーティング（Ⅳ） /REGEMに向けて － レーザ加工 ー

导电聚合物涂层 (IV) / 根据专利文献走向 REGEM - 激光加工 -

• 发表时间: 2014
• 作者: 田中一幸;神田展行;田越秀行;KAGRA collaboration;郡 和範;山県民穂;中村誠一，上原秀雄，幅淳二
• 通讯作者: 中村誠一，上原秀雄，幅淳二

特許文献による導電性高分子コーティング（III) ／REGEMに向けて ― GEM穴の精度をあげる ―

根据专利文献的导电聚合物涂层（III）/走向REGEM - 提高GEM孔的精度 -

• 作者: T.Aso;T.Akagi;G.Iwai;A.Kimura;Y.Maeda;N.Mastufuji;T.Nishi;C.Omachi;T.Sasaki;W.Takase;T.Toshito;T.Yamashita;Y.Watase;中村誠一，上原秀雄，幅淳二
• 通讯作者: 中村誠一，上原秀雄，幅淳二