Investigation of fundamental characteristics of bubble plasma under water
水下气泡等离子体基本特性研究
基本信息
- 批准号:22740361
- 负责人:
- 金额:$ 2.83万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2010
- 资助国家:日本
- 起止时间:2010 至 2011
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Plasma production system was developed to investigate fundamental phenomena in nonequilibrium microwave excited plasma in a bubble under liquid, which enables us to produce same-sized plasma in same bubble size. Localized microwave plasma production was observed in the vicinity of an antenna by time-resolved optical emission images, while filamentary plasma is produced with use of a high-voltage pulse irradiation in general. Time-resolved optical emission spectroscopy indicated that vapor pressure derived from the solvent was increased in the case of the small bubble size.
开发了血浆生产系统是为了研究液体下气泡中非平衡微波激发血浆中的基本现象,这使我们能够以相同的气泡大小产生相同大小的等离子体。通过时间分辨的光发射图像在天线的附近观察到局部微波等离子体的产生,而丝状等离子体通常使用高压脉冲辐射而产生。时间分辨的光发射光谱表明,在小气泡尺寸的情况下,从溶剂中得出的蒸气压增加了。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Temporal variation of water vapor pressure inside a bubble under water induced by microwave plasma
微波等离子体引起的水下气泡内水蒸气压的时间变化
- DOI:
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H. Suzuki;T. Ishijima;H. Toyoda
- 通讯作者:H. Toyoda
Influence of temperature and pressure on solute decomposition efficiency by microwave-excited plasma
温度和压力对微波激发等离子体溶质分解效率的影响
- DOI:10.1016/j.cap.2011.02.022
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:2.4
- 作者:R. Saito;H. Sugiura;T. Ishijima;H. Toyoda
- 通讯作者:H. Toyoda
Bubble Plasma Production under Water using Microwave-Basic Study in Multi-phase Structure and Application
微波水下气泡等离子体生产——多相结构基础研究及应用
- DOI:
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Ishijima;H. Suzuki;K. Kanetake;H. Toyoda
- 通讯作者:H. Toyoda
Refractory of Organic Solute Decomposition in Water using Microwave Plasma
使用微波等离子体耐水中有机溶质分解
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Ishijima;R. Saito;H. Sugihara;H. Toyoda
- 通讯作者:H. Toyoda
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
ISHIJIMA Tatsuo其他文献
ISHIJIMA Tatsuo的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
相似海外基金
短寿命化学活性種の活用を目指したプラズマ照射ミストの生成技術と殺菌への応用
利用短寿命化学活性物质的等离子体辐照雾产生技术及其在灭菌中的应用
- 批准号:
24K07432 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
気液界面プラズマによる高効率炭素固定プロセスの開発と応用
气液界面等离子体高效固碳工艺开发及应用
- 批准号:
22H02120 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
プラズマと光の遠隔作用を利用した、形状自在な強反応場の形成
利用等离子体和光的远程作用形成可配置的强反应场
- 批准号:
22H01475 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Construction of thin film deposition model in CVD / ALD method considering chemical reaction and interfacial flow phenomenon
考虑化学反应和界面流动现象的CVD/ALD法薄膜沉积模型构建
- 批准号:
21H01243 - 财政年份:2021
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
プラズマCVDを用いた低応力・高密度カーボンナノコンポジット膜の高速製膜法の創成
使用等离子体CVD创建低应力、高密度碳纳米复合材料薄膜的高速薄膜生产方法
- 批准号:
20J13122 - 财政年份:2020
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows