Mechanism of oxygen transportation in Czochralski Ge crystal growth from the melt covered by B_2O_3
B_2O_3覆盖熔体中直拉Ge晶体生长的氧传输机制
基本信息
- 批准号:22686002
- 负责人:
- 金额:$ 16.89万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
- 财政年份:2010
- 资助国家:日本
- 起止时间:2010 至 2012
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Mechanism of oxygen transportation in Czochralski germanium (Ge) crystal growth from the melt covered by B_2O_3 was investigated. Ge crystals with high oxygen concentration up to were successfully grown from the melt fully covered by B_2O_3. In such growth, GeO_2 particles is decomposed by B_2O_3, however, few B and Si atoms were contaminated in the Ge melt and the grown crystal. Dissolution, evaporation and segregation of oxygen in the present growth were also discussed, finally, transportation of oxygen during the growth was clarified.
研究了B_2O_3所覆盖的熔体晶体生长中氧气转运的机理。高氧浓度向上的GE晶体从完全覆盖的B_2O_3覆盖的熔体成功生长。在这种生长中,GEO_2颗粒被B_2O_3分解,但是,在GE熔体和生长晶体中,很少有B和Si原子被污染。最终,还讨论了当前生长中氧气中氧气的溶解,蒸发和隔离,最终阐明了氧气在生长过程中的转运。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
B_2O_3で覆われた融液からのCZ-Ge結晶育成における酸素の偏析
B_2O_3 覆盖熔体生长 CZ-Ge 晶体过程中的氧偏析
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:太子敏則;米永一郎;干川圭吾
- 通讯作者:干川圭吾
Evaluations of oxygen impurities in Ge crystals Czochralski-grown from melts partially or fully covered by B_2O_3 liquid, Proc
从部分或完全被 B_2O_3 液体覆盖的熔体中直拉生长的 Ge 晶体中氧杂质的评估,Proc
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Taishi;Y. Hashimoto;H. Ise;Y. Murao;T. Ohsawa;Y. Tokumoto;Y. Ohno;I. Yonenaga
- 通讯作者:I. Yonenaga
Growth and characterization of germanium crystals from B_2O_3-coverd melt
B_2O_3覆盖熔体中锗晶体的生长和表征
- DOI:
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Takumi Hiasa;Kenjiro Kimura;Hiroshi Onishi;Masahiro Ohta;Kazuyuki Watanabe;Ryohei Kokawa;Noriaki Oyabu;Kei Kobayashi;Hirofumi Yamada;T. Taishi
- 通讯作者:T. Taishi
B_2O_3で覆われた融液からのCZ- Ge結晶育成におけるB、 Si、 Oの反応
B_2O_3 覆盖熔体生长 CZ-Ge 晶体时 B、Si 和 O 的反应
- DOI:
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:横田統徳;成田和繁;吉田昭二;寺田康彦;武内修;重川秀実;T.Michinobu;太子敏則;Y. Togawa;高橋宏治;S. Inoue and A. Otomo;戸川欣彦,小山司,森茂生,高阪勇輔,秋光純,西原禎文,井上克也,岸根順一郎;太子敏則,米永一郎,干川圭吾
- 通讯作者:太子敏則,米永一郎,干川圭吾
Evaluation of oxygen-related defects in Ge crystals grown from the melt covered by B_2O_3
B_2O_3 覆盖熔体生长的 Ge 晶体中与氧相关的缺陷评估
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T.Taishi;Y.Hashimoto;H.Ise;Y.Murao;T.Ohsawa;Y.Tokumoto;Y.Ohno;I.Yonenaga
- 通讯作者:I.Yonenaga
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
TAISHI Toshinori其他文献
Polycrystalline SiC coating on large-sized SiC ceramics using Si vapor
使用 Si 蒸气在大尺寸 SiC 陶瓷上形成多晶 SiC 涂层
- DOI:
10.2109/jcersj2.21121 - 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:1.1
- 作者:
KAGAMI Yuuki;YAMAMOTO Syuuichi;YOKOBAYASHI Yuta;UCHIDA Ryunosuke;SUZUKI Koki;TARUTA Seiichi;TAISHI Toshinori - 通讯作者:
TAISHI Toshinori
TAISHI Toshinori的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('TAISHI Toshinori', 18)}}的其他基金
Formation mechanism of grown-in defects in Czochralski germanium crystal growth
直拉锗晶体生长中生长缺陷的形成机制
- 批准号:
20760003 - 财政年份:2008
- 资助金额:
$ 16.89万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
相似海外基金
電子ビームを用いたアモルファスGeSnの室温・瞬間結晶化技術の確立と電気特性評価
非晶GeSn电子束室温瞬时晶化技术的建立及电性能评价
- 批准号:
23K23083 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 16.89万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
半導体材料の結晶粒界強度に及ぼす光環境効果の評価とそのメカニズム解明
光环境对半导体材料晶界强度影响的评价及机理阐明
- 批准号:
24K17169 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 16.89万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
f電子系複カルコゲナイドの純良単結晶と局所電子状態評価による新規物性探索
利用f电子复合硫属化物的纯单晶寻找新的物理性质和局域电子态评估
- 批准号:
24K00590 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 16.89万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
多結晶Geの物性評価とデバイス応用のためのpn接合形成技術の構築
多晶Ge物理性能评价及器件应用pn结形成技术构建
- 批准号:
23K13674 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 16.89万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
パイエルス歪を有するカルコゲナイド結晶性相変化材料の光励起挙動評価
Peierls应变评价硫族化物结晶相变材料的光激发行为
- 批准号:
23K17808 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 16.89万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)