Development of surface figure metrology system based on stitching interferometric method for hard x-ray nano-focusing mirrors

基于拼接干涉法的硬X射线纳米聚焦镜面形测量系统研制

• 批准号: 21760106
• 负责人: YUMOTO Hirokatsu
• 金额: $ 2.91万
• 依托单位: Japan Synchrotron Radiation Research Institute
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2009 至 2010
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21760106/
• 关键词: 表面形状計測; X線ミラー; スティッチング干渉計; X線光学素子; X線ナノ集光; 回転楕円面ミラー

In this study, we aimed at the realization of hard-x-ray nano-focusing beam using mirror optics. We developed a surface figure metrology system to measure nano-focusing mirror surface. We built a stitching interferometric system by using a white light microscopic interferometer. In this system, the microscopic interferometer measures local surface area of mirror surface, and at the same time, relative angle between local surface areas is measured by using another interferometer. This enables to measure entire mirror surface profile with an accuracy of a nanometer level.

在这项研究中，我们针对使用Mirror光学元件实现硬X射线纳米束的光束。我们开发了一个表面图计量系统，以测量以纳米为方面的镜面表面。我们通过使用白光显微镜干涉仪建立了缝线干涉系统。在该系统中，微观干涉仪测量了镜面的局部表面积，同时，使用另一个干涉仪测量局部表面积之间的相对角度。这使得能够以纳米水平的精度测量整个镜面曲线。

项目成果

Surface figure metrology system for hard x-ray sub-10-nm focusing mirrors.

用于硬 X 射线亚 10 nm 聚焦镜的表面形状计量系统。

• 发表时间: 2011
• 作者: Hirokatsu Yumoto;Hidekazu Mimura,Takashi Kimura;Satoshi Matsuyama;Yasuhisa Sano;Haruhiko Ohashi,Kazuto Yamauchi;Tetsuya Ishikawa.
• 通讯作者: Tetsuya Ishikawa.