Development of ZnO thermoelectric thin film with fine particle using plasma sputtering and plasma flow

利用等离子体溅射和等离子体流开发细颗粒 ZnO 热电薄膜

• 批准号: 21740401
• 负责人: MISAWA Tatsuya
• 金额: $ 1.83万
• 依托单位: Saga University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2009 至 2010
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21740401/
• 关键词: 放電プラズマ焼結プロセス; プラズマスパッタリング; 熱電変換材料; 酸化亜鉛セラミックス; 金属酸化物薄膜

For the realization of the high-performance thermoelectric thin film materials, the study of mechanism of the internal construction control in sintered specimen on Spark Plasma Sintering process and development of ZnO thermoelectric thin film with fine particle using plasma sputtering and plasma flow were carried out.

为了实现高性能热电薄膜材料，对烧结样品的内部施工控制机制进行了研究，以及使用血浆溅射和等离子体流动的细颗粒的ZnO热电薄膜开发。