Development of filtered-arc-deposition source with activated anode and preparation of functional-amorphous carbon film

活性阳极过滤电弧沉积源的研制及功能性非晶碳膜的制备

基本信息

批准号：
21360131
负责人：
TAKIKAWA Hirofumi
金额：
$ 11.65万
依托单位：
Toyohashi University of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2009
资助国家：
日本
起止时间：
2009 至 2011
项目状态：
已结题

项目摘要

About a functional film deposition apparatus using the vacuum arc discharge plasma, we designed and developed a new filtered-arc-deposition system for doping dissimilar element into DLC film and preparing high-quality(high smoothness, uniform and droplet-free) DLC film. Apparatus function was assessed and dissimilar element doped DLC film was prepared.

针对采用真空电弧放电等离子体的功能性薄膜沉积装置，我们设计开发了一种新型过滤电弧沉积系统，用于将异种元素掺杂到DLC薄膜中，制备高质量（高光滑度、均匀、无熔滴）的DLC薄膜。对装置功能进行了评估，制备了异种元素掺杂DLC薄膜。

项目成果

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专利数量（0）

フィルタードアーク蒸着法で形成したDLC膜の膜質に及ぼす基板バイアスの影響

基底偏压对过滤电弧蒸镀法形成DLC膜膜质量的影响

DOI：
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
0
作者：
Qi Zhang;Xiangdong Sun;Yanru Zhong;Biying Ren and Mikihiko Matsui;柏木大幸
通讯作者：
柏木大幸

Removal of diamond-like carbon film by oxygen-dominated plasma beam converted from filtered carbon-cathodic arc

过滤碳阴极电弧转化的氧主导等离子束去除类金刚石碳膜

DOI：
发表时间：
2011
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
H. Tanoue;M. Kamiya;Y. Suda;S. Oke;H. Takikawa;Y. Hasegawa;M. Taki;N. Tsuji;T. Ishikawa;H. Yasui
通讯作者：
H. Yasui

水素フリーダイヤモンドライクカーボン膜の半導体性評価

无氢类金刚石碳膜的半导体性能评价

DOI：
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
0
作者：
Miya Amada;Naoya Miyamoto;Takehiro Enomoto;Norimasa Tanabe;Junichi Asama;Akira Chiba;Tadashi Fukao;Satoru Iwasaki;and Masatsugu Takemoto;田上英人,柏木大幸,奥田浩史,角口公章,須田善行,滝川浩史,神谷雅男,瀧真,長谷川祐史,辻信広,石川剛史
通讯作者：
田上英人,柏木大幸,奥田浩史,角口公章,須田善行,滝川浩史,神谷雅男,瀧真,長谷川祐史,辻信広,石川剛史

高品質DLC膜形成に向けた真空アークプラズマビームの制御

真空电弧等离子束控制可形成高质量 DLC 薄膜

DOI：
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
0
作者：
Shinichiro MUROOKA;Keisuke TOMODA;Nobukazu HOSHI;Junnosuke HARUNA;Meifen CAO;Atsuhiro YOSHIZAKI and Keiichi HIRATA;滝川浩史
通讯作者：
滝川浩史

Ashing of DLC film by oxygen plasma beam converted from filtered carbon-cathodic-arc

过滤碳阴极电弧转化的氧等离子束灰化 DLC 薄膜