イオン液体基板へのプラズマ照射による量子スピン系フラーレンの創製

离子液体基底上等离子体辐照制备量子自旋富勒烯

基本信息

批准号：
20654055
负责人：
金子俊郎
金额：
$ 2.05万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2008
资助国家：
日本
起止时间：
2008 至 2010
项目状态：
已结题

项目摘要

磁性金属を内包したフラーレン,すなわち量子スピン系フラーレンを創製することを目的として,前年度までの成果を基に,ニッケルイオンのフラーレンへの照射実験と解析を行った.本年度は特に,ニッケルイオンの照射エネルギーを制御し,ニッケル内包フラーレン(Ni@C_<60>)が高効率に形成される条件を詳細に調べた.1.フラーレンを堆積させる基板の電位を変化させた場合でも,プラズマ空間電位は変化しないことを実測し,空間電位と基板電位との差で加速されるニッケルイオンのフラーレンへの照射エネルギーの制御が可能であることを示した.2.合成したNi@C_<60>を含有する試料をレーザー脱離飛行時間型質量分析器で解析し,Ni@C_<60>に相当する質量数778m/zのピーク強度のニッケルイオン照射エネルギー依存性を調べたところ,Ni@C_<60>の合成効率がイオン照射エネルギーに顕著に依存し,35～40eVの場合に最大となることが明らかとなった.このイオン照射エネルギーの最適値は,第一原理計算を用いたNi@C_<60>合成のシミュレーションの結果と類似していることも明らかとなった.3.合成された試料を硝酸と混合・撹絆し,C_<60>球殻の外側に付着しているニッケルを除去した場合にも,質量数778m/zのピークが検出されたこと,並びにニッケル外接C_<60>の合成実験を行った結果からは,質量数778m/zのピークが検出されていないことから,本研究において検出された質量スペクトルはNi外接C_<60>由来のものではなく,Ni内包C_<60>のものであると考えられる.4.純度向上プロセスに必須のNi@C_<60>が溶解する溶媒を探索したところ,クロロナフタレンに僅かに溶解することが判明し,高速液体クロマトグラフィによってNi@C_<60>を分離精製する基盤を確立した.

根据上一年的结果，进行了镍离子的辐射实验和分析，目的是创建含有磁性金属的富勒烯，即基于量子自旋的富勒烯。并检查镍室包装填充物（Ni@c_ <60>）的条件是高效的。可以控制空间电势和底物电位之间的差异。2.2。在检查了Ni@C_ <60>的778 m/z中，Ni@C_ <很明显60>的合成效率取决于离子辐射的能量，这是35-40 eV的最大值。使用第一个原理计算，该离子 - 辐射能的最佳值是Ni@c_。酸和键合，并连接到球形壳的外部。镍外部C_ <60>的合成实验，本研究中检测到的质谱不是从Ni外部C_ <60>中得出的发现它略微溶解在氯纳未丁烯中，高速液态色谱法建立了一个分离和完善Ni@c_ c_ <60>的基础。

项目成果

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专著数量（0）

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会议论文数量（0）

专利数量（0）

Static gas-liquid interfacial direct current discharge plasmas using ionic liquid cathode

DOI：
10.1063/1.3133213
发表时间：
2009-05-15
期刊：
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
影响因子：
3.2
作者：
Kaneko, T.;Baba, K.;Hatakeyama, R.
通讯作者：
Hatakeyama, R.

Photoswitching in Azafullerene Encapsulated Single-Walled Carbon Nanotube FET Devices

DOI：
10.1021/ja810086g
发表时间：
2009-03-18
期刊：
JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY
影响因子：
15
作者：
Li, Yongfeng;Kaneko, Toshiro;Hatakeyama, Rikizo
通讯作者：
Hatakeyama, Rikizo

Structure Control and Etching Stabilities of Carbon Nanowalls Grown by Low Magnetic-Field Helicon Plasma CVD

低磁场螺旋等离子体 CVD 生长碳纳米墙的结构控制和刻蚀稳定性

DOI：
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
0
作者：
焼山佑美;森田靖;Kazuki Miyagi;T.Kaneko;山内美穂;焼山佑美;藤田哲嗣;Q.Chen;岡崎雅明;山内美穂;松井佑実子;池田宏和;焼山佑美;Masaaki Okazaki;M.Yamazaki
通讯作者：
M.Yamazaki

Plasma Processing Challenge toward Carbon-Nanotube Chirality Control

碳纳米管手性控制的等离子体处理挑战

DOI：
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
0
作者：
F.L.Gu;Y.Aoki;森田靖;R.Hatakeyama
通讯作者：
R.Hatakeyama

Nanoscopic Plasma Processes Controlling Structures and Properties of Carbon Nanotubes

纳米等离子体过程控制碳纳米管的结构和性能

DOI：
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
0
作者：
F.L.Gu;Y.Aoki;森田靖;R.Hatakeyama;Miho Yamauchi;岡崎雅明;T.Kaneko;森田靖;小矢俊輔;山内美穂;R.Hatakeyama
通讯作者：
R.Hatakeyama

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通讯作者：
加藤　俊顕，金子　俊郎

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通讯作者：
佐野大輔

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Wataru YAMAZAKI;Kisa MATSUSHIMA;Kazuhiro NAKAHASHI;関根久子;Hisako Sekine;関根(本多)久子;Hisako Sekine;K.Ueno et al.;豊崎秀海他;K.Mamiya et al.;H.Toyosaki et al.;M.Nakano et al.;福村知昭他;J.W.Quilty et al.;H.Toyosaki et al.;H.Toyosaki et al.;T.Fukumura et al.;Y.Yamada et al.;H.Toyosaki et al.;Y.Yamada et al.;K.Takahashi;T.Kaneko;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;R.Hatakeyama;高橋和貴;高橋和貴;高橋和貴;高橋和貴;高橋和貴;金子俊郎;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;高橋和貴;高橋和貴;金子俊郎;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;K.Takahashi;高橋和貴
通讯作者：
高橋和貴

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发表时间：
2005
期刊：
Applied and Environmental Microbiology 71
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作者：
K.Mizuta;H.Izumi;R.Ichiki;T.Kaneko;市来龍大;R.Ichiki;T.Kaneko;市來龍大;市來龍大;市來龍大;R.Ichiki;R.Ichiki;市來龍大;市來龍大;金子俊郎;市來龍大;市來龍大;R.Ichiki;Grant S.Hansman;Daisuke Sano;Daisuke Sano;Daisuke Sano;Daisuke Sano;佐野大輔;Daisuke Sano
通讯作者：
Daisuke Sano