Realization of transparent conducting TiO_2-based polycrystalline films

TiO_2基透明导电多晶薄膜的实现

基本信息

批准号：
19760475
负责人：
YAMADA Naoomi
金额：
$ 2.37万
依托单位：
Kanagawa Academy of Science and Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2007
资助国家：
日本
起止时间：
2007 至 2008
项目状态：
已结题

项目摘要

スパッタ法を用いて作製した、NbドープTiO_2多結晶薄膜で透明導電性を実現させることに取り組んだ。H19年度は、アモルファス薄膜をアニールで結晶化させることによって、高い導電性が得られることを示した。実用的な透明導電体に要求される抵抗率(ρ=5×10^<-4>Ωcm)に迫るρ=6.5×10^<-4>Ωcmを得ることに成功した。H21年度は、アニールを省略し、直接ガラス上に形成した多結晶薄膜で透明導電性を発現させることに取り組んだ。「セルフシード層法」という手法を開発し、ρ=1.1×10^<-3>Ωcmを得ることができた。本研究により、TiO_2系透明導電体の実用を視野に入れてもよい状況になってきた。

我们致力于在溅射制备的掺铌 TiO_2 多晶薄膜中实现透明导电性。 2009年度，我们证明了通过退火使非晶薄膜结晶化可以获得高导电率。我们成功获得了ρ=6.5×10^-4Ωcm的电阻率，这接近于实际透明导体所需的电阻率（ρ=5×10^-4>Ωcm）。 2016年度，我们省略了退火，并致力于使用直接在玻璃上形成的多晶薄膜来开发透明导电性。我们开发了一种称为“自种子层法”的方法，并能够获得ρ=1.1×10^<-3>Ωcm。通过这项研究，我们现在可以考虑 TiO_2 基透明导体的实际应用。

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Niobium-doped Anatase Titanium Oxide Transparent Conducting Films

铌掺杂锐钛矿型二氧化钛透明导电薄膜

DOI：
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
0
作者：
N. Yamada;N. L. H. Hoang;J. Kasai;T. Hitosugi;T. Shimada;and T. Hasegawa
通讯作者：
and T. Hasegawa

Low-temperature Fabrication of Transparent Conducting Anatase Nb-doped TiO_2 Films by Sputtering

低温溅射法制备锐钛矿型铌掺杂TiO_2透明导电薄膜

DOI：
发表时间：
2008
期刊：
Appl. Phys. Express 1
影响因子：
0
作者：
N. L. H. Hoang;N. Yamada;T. Hitosugi;J. Kasai;S. Nakao;T. Shimada;and T. Hasegawa
通讯作者：
and T. Hasegawa

アナターゼ型TiO_2系透明導電体の透明導電メカニズム

锐钛矿型TiO_2基透明导体的透明导电机理

DOI：
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
0
作者：
一杉太郎;神坂英幸;山下晃一;近松彰;組頭広志;尾嶋正治;能川玄之;鶴浜哲一;ホァンゴクランフン;中尾祥一郎;古林寛;笠井淳平;広瀬靖;山田直臣;島田敏宏;長谷川哲也
通讯作者：
長谷川哲也

Transparent conductive Ti_<1-x>NbxO_2 polycrystalline films on glass substrates fabricated via crystallization of amorphous phase

非晶相晶化玻璃基板上透明导电Ti_<1-x>NbxO_2多晶薄膜

DOI：
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Hitosugi;A. Ueda;S. Nakao;N. Yamada;Y. Furubayashi;Y. Hirose;T. Shimada and T. Hasegawa
通讯作者：
T. Shimada and T. Hasegawa

スパッタ法による二酸化チタン系透明導電膜の成膜技術と特性

二氧化钛基透明导电薄膜溅射法成膜技术及特性