Intellectual advancement on loose abrasive polishing for super mass production of crystal substrate

晶体基片超量产散磨料抛光的智力进展

基本信息

  • 批准号:
    19560107
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.91万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2007
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2007 至 2008
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

超量産仕上げ加工を実現するための遊離砥粒研磨技術について検討した. 両面研磨加工技術については新規開発したスケルトン型加工装置により加工状況の把握, およびそれに基づく加工メカニズムの考察が可能となった. 表面形状加工技術については, オスカー型と修正輪型それぞれについて現象観察に基づく考察, および試料保持方法などの各種技術開発により数100倍の高能率化が図れる接触型研磨技術が適用可能であることを示した.
我们研究了自由磨料抛光技术,以实现超量产精加工。对于双面抛光技术,新开发的骨架式加工装置可以掌握加工情况,并在此基础上研究加工机理。通过对奥斯卡型和校正环型现象的观察以及样品保持方法等各种技术发展的考虑,可以应用可提高数百倍效率的接触抛光技术。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
可視化研磨機による加工面観察(第2報)-溝付き定盤の場合-
使用可视化抛光机观察加工表面(第 2 份报告) - 如果是凹槽面板 -
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    山崎次男;堀尾健一郎;松原巧季;金子順一
  • 通讯作者:
    金子順一
New Approaches of Bevel Shape Generation for Quartz Crystal
石英晶体斜角生成的新方法
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