超低摩擦機械要素実現のための窒化炭素膜超低凝着表面層の測定及び極性基の同定
氮化碳薄膜超低附着力表层测量及极性基团识别,实现超低摩擦机械元件
基本信息
- 批准号:18860036
- 负责人:
- 金额:$ 1.75万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (Start-up)
- 财政年份:2006
- 资助国家:日本
- 起止时间:2006 至 2007
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
CNx(窒化炭素)膜とSi_3N_4(窒化ケイ素)材料の窒素中超低摩擦現象は,窒素雰囲気中において任意のくり返し摩擦の後に得られるが,このなじみ期間において摩擦面での極性基の増減あるいは変化は明らかでなく,従来の表面分析手法では,摩擦試験と分析を同時に行えないことから正確な表面状態を把握することができなかった.そこで本研究では,より正確な分析を行うために,FTIRチャンバ内にて摩擦試験とその場分析可能な摩擦試験装置を試作し,窒素中及びアルゴン中の摩擦に伴うCNx膜極表面の官能基の変化を明らかにした.得られた主な結果を以下に示す.Si_3N_4円筒側面とCNx膜を荷重0.2N,ヘルツの平均接触圧力3.85MPaにて窒素中摩擦試験を行い,その場分析を行った.その結果,CNx膜最表面に吸着した官能基である-NH及び-OH結合に対応するピーク面積は,摩擦初期においては0.10程度であったが,4000サイクルまで摩擦係数が0から0.6程度であった間に,ピーク面積は増加し最大で0.16になった.その後4500サイクル程度からの急激な摩擦係数の減少に伴いピーク面積も急激に減少し,摩擦係数が0.01となる超低摩擦現象を発現した時には,摩擦初期の面積より小さい0.051(平均値)程度となった.これらの官能基の変化は,摩擦試験と分析を同時に行うその場分析を行ったことにより,初めて観察することができた.以上の結果から,極性を持つ官能基である-NH及び-OH結合のCNx膜最表面での形成・脱離が摩擦力に影響を及ぼしていることを提案した.
CNX(碳氮)膜和Si_3n_4(氮化硅)材料是在任何重复的摩擦后获得的,但是在这种熟悉度中,在这种熟悉的情况下增加了或减少或变化。由于常规的表面分析方法无法同时执行摩擦测试和分析,因此在这项研究中,Camba进行了更准确的分析,摩擦测试和分析的摩擦测试装置是原型的CNX膜的感性基团在氮和ALGON中摩擦引起的极性表面。 ,赫兹的平均接触压力,并在摩擦早期阶段对应于-NH和-OH键的峰值面积约为0.10,但峰面积增加到0.16时。到4000周期之后,当峰面积急剧下降,因为摩擦系数迅速降低,与4500个周期的程度降低,并且超低摩擦现象的摩擦系数为0.01。早期的摩擦面积为0.051(平均值)。 -OH键影响摩擦力。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
In Situ Analysis of the Tribochemical Reaction of CNx by FTIR
- DOI:10.2474/trol.3.100
- 发表时间:2008-04
- 期刊:
- 影响因子:1
- 作者:S. Kanda;T. Tokoroyama;N. Umehara;Y. Fuwa
- 通讯作者:S. Kanda;T. Tokoroyama;N. Umehara;Y. Fuwa
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