Crystal growth mechanism of organic semiconductors and characteristics of organic transistor
有机半导体晶体生长机理及有机晶体管特性
基本信息
- 批准号:18560002
- 负责人:
- 金额:$ 2.48万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2006
- 资助国家:日本
- 起止时间:2006 至 2008
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
真空蒸着法による有機半導体薄膜の成長初期過程の解明を目的とし、微少角入射(GIXD)In-planeX線回折により有機半導体薄膜の面内構造を調査し、その膜厚依存性を解明するとともにトランジスタ特性を調査した。本研究において、SiO2ウエハ上に蒸着した平均膜厚0.2~100nmのオリゴチオフェンのIn-plane GIXDパタンを得ることに成功し、膜厚の増加と共に分子間のパッキングが変化することを明らかにした。
为了通过真空蒸发方法阐明有机半导体薄膜的生长,我们通过爆炸一个小角度(GIXD)in-planex线来研究有机半导体薄膜的内部结构,并阐明其膜的依赖性和晶体管研究了特征。在这项研究中,据说已经成功获得了在Sio2晶片上蒸的寡芯平均薄膜厚度为0.2至100 nm的寡粒圆形,并且已成功获得,并且分子之间的填料随着膜厚度的厚度的增加而变化。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Polymorphism in pentacene thin films on SiO2 substrate
- DOI:10.1063/1.2709516
- 发表时间:2007-02-19
- 期刊:
- 影响因子:4
- 作者:Kakudate, Toshiyuki;Yoshimoto, Noriyuki;Saito, Yoshio
- 通讯作者:Saito, Yoshio
Thin-film structure of semiconducting end-capped origothiophenes
半导体封端的聚噻吩薄膜结构
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:N. Yoshimoto;W. Y. Li;K. Omote;J. Ackermann;C. Videlot-Ackermann;H. Brisset;F. Fages
- 通讯作者:F. Fages
Epitaxial relationships of vapor deposited thin films of octithiophene on KBr (001)
KBr (001) 上八噻吩气相沉积薄膜的外延关系
- DOI:
- 发表时间:2006
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Toshiyuki;Kakudate;Akira Murayama;Tomoharu Asano;Kouji Matsumoto;K.Kawamura
- 通讯作者:K.Kawamura
Solution growth of semiconducting distyryl-oligothiophenes
半导体二苯乙烯基低聚噻吩的溶液生长
- DOI:
- 发表时间:2007
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M. Ito ;W.Y. Li;N. Yoshimoto;H. Fujishiro;Y. Asabe
- 通讯作者:Y. Asabe
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通过二维 X 射线衍射对有机半导体薄膜进行原位结构分析
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15K04647 - 财政年份:2015
- 资助金额:
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- 批准号:10774081
- 批准年份:2007
- 资助金额:45.0 万元
- 项目类别:面上项目
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Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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- 资助金额:
$ 2.48万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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- 批准号:
21K05221 - 财政年份:2021
- 资助金额:
$ 2.48万 - 项目类别:
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21K04195 - 财政年份:2021
- 资助金额:
$ 2.48万 - 项目类别:
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- 资助金额:
$ 2.48万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)