Research for Physical Properties and Applications to Electronic Devices in Ferromagnetic and Ferroelectric Oxide Films Prepared by Sputtering
溅射制备铁磁、铁电氧化物薄膜的物理性能及其在电子器件中的应用研究
基本信息
- 批准号:13650364
- 负责人:
- 金额:$ 2.69万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2001
- 资助国家:日本
- 起止时间:2001 至 2002
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
In Bi_2O_3-Fe_2-O_3-PbTiO_3 system thin films prepared by rf-reactive sputtering, ε_r' the real part of dielectric permittivity, was changed by applying a magnetic field H. The Δε_r' vs. H curves of the films subjected to annealing at various temperatures were strongly correlated with their magnetization properties. The maximum relative value of |Δε_r''(H)/ε_r'| reached as much as 1.0%. A ε_r''(H) curve can be reconstructed by a simple model based on uniform magnetization rotation. Next, we measured the temperature dependence of ε_r' and Δε_r'(H)- Both quantities increase rapidly above 50℃, which suggests that softening of the glass network of the dielectric matrix takes place at this temperature to promote the charge displacement giving rise to the dielectric polarization. In addition, we measured the magnetic field dependence of the displacement current Jd(H) to confirm whether the permeability change with magnetic field Δε_r''(H) is intrinsic. It was found that Jd(H) is also subject to change in a similar manner to Δε_r'(H), indicating that the charge displacement assisted by H really occurs. Finally, we observed the dielectric polarization induced by applying a small ac magnetic field at room temperature. This is considered to be a new type of electromagnetic effect. To explain the experimental results, we propose a simple model based on magnetization rotation of ferromagnetic nano-clusters dispersed in a dielectric glassy matrix.
在BI_2O_3-FE_2-O_3-PBTIO_3在通过RF反应溅射制备的系统薄膜中,ε_r'饮食介绍力的真正部分通过磁场H进行了H。Δε_R'vs.与在各种温度下具有强度较高质量质量的电影的Δε_R'vs. H曲线。 |δε_r''(h)/ε_r'|的最大相对值达到1.0%。可以通过基于均匀磁化旋转的简单模型重建ε_r''(H)曲线。接下来,我们测量了ε_r'和δε_R'(h)的温度依赖性 - 两个量迅速增加以上,这表明在此温度下进行饮食基质的玻璃网络的软化是在此温度下进行的,以促进电荷位移,从而引起字典极化。此外,我们测量了位移电流JD(H)的磁场依赖性,以确认磁场的渗透率是否随磁场变化为δε_R''(H)是固有的。发现JD(H)也可能以与δε_R'(H)相似的方式发生变化,表明由H辅助的电荷位移确实发生了。最后,我们观察到通过在室温下施加一个小的AC磁场引起的饮食极化。这被认为是一种新型的电磁效应。为了解释实验结果,我们提出了一个简单的模型,基于分散在旧的玻璃基体中的铁磁纳米群的磁化旋转。
项目成果
期刊论文数量(16)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
A.Kajima: "Variation of Dielectric Permeability by Applying Magnetic Field in Nano-composite Bi_2O_3-Fe_2O_3-PbTiO_3 Sputtered Films"Journal of Magnetism and Magnetic Materials. (印刷中). (2003)
A. Kajima:“在纳米复合材料 Bi_2O_3-Fe_2O_3-PbTiO_3 溅射薄膜中施加磁场的变化”,《磁性与磁性材料》杂志(2003 年出版)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
A. Kajima: "Variation of Dielectric Permeability by Applying Magnetic Field in Nano-composite Bi_2O_3-Fe_2-O_3-PbTiO_3 Sputtered Films"Journal of Magnetism and Magnetic Materials. in print. (2003)
A. Kajima:“通过在纳米复合材料Bi_2O_3-Fe_2-O_3-PbTiO_3溅射薄膜中施加磁场来改变介电导率”《磁性与磁性材料杂志》。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
加島 篤: "Fe_2O_3-Bi_2O_3-PbTiO_3系酸化物薄膜における磁界による誘電率変化"日本応用磁気学会誌. (印刷中). (2002)
Atsushi Kashima:“Fe_2O_3-Bi_2O_3-PbTiO_3 基氧化物薄膜中介电常数的变化”,日本应用磁学学会杂志(2002 年出版)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
A. Kajima: "Dielectric Permittivity Changes with Magnetic Field in Fe_2-O_3-PbTiO_3 System Oxide Film"Journal of Magnetic Society of Japan. 26,No.4. 445-448 (2002)
A. Kajima:“Fe_2-O_3-PbTiO_3系氧化物薄膜中介电常数随磁场的变化”日本磁学会会刊。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
T.Fujii: "Dielectric Permeability in Nano-composite Ferromagnetic Oxide Films Prepared by RF-Sputtering"Proceedings of International Conference on Advanced Material Processing 2002, Singapore. (印刷中). (2003)
T.Fujii:“射频溅射制备的纳米复合铁磁氧化物薄膜的介电导率”2002 年先进材料加工国际会议论文集,新加坡(2003 年出版)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
KAJIMA Atsushi其他文献
KAJIMA Atsushi的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('KAJIMA Atsushi', 18)}}的其他基金
Research for Electric-field-driven Magnetooptical Devices based on Electromagnetic Effect
基于电磁效应的电场驱动磁光器件研究
- 批准号:
17560297 - 财政年份:2005
- 资助金额:
$ 2.69万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
相似国自然基金
Cr-Al-N涂层宽温域内抗不同类型高温腐蚀机理
- 批准号:50771099
- 批准年份:2007
- 资助金额:30.0 万元
- 项目类别:面上项目
相似海外基金
Novel group-IV nitride films by reactive sputtering as potential nonlinear optical materials in Si photonics
反应溅射新型 IV 族氮化物薄膜作为硅光子学中潜在的非线性光学材料
- 批准号:
23K03941 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.69万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Electrically pumped ZnO-based UV polariton laser operating at room temperature
室温下工作的电泵浦 ZnO 基紫外偏振激元激光器
- 批准号:
19K15453 - 财政年份:2019
- 资助金额:
$ 2.69万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Reactive co-sputtering thin film deposition system
反应共溅射薄膜沉积系统
- 批准号:
419194575 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 2.69万 - 项目类别:
Major Research Instrumentation
Plasma based process control of reactive sputtering
基于等离子体的反应溅射过程控制
- 批准号:
417888799 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 2.69万 - 项目类别:
Research Grants
Elucidation of AlN conversion layer formation mechanism by nitrogen plasma and single crystal growth by reactive sputtering
氮等离子体和反应溅射单晶生长阐明 AlN 转化层形成机制
- 批准号:
18K04962 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 2.69万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)