MOCVD/ゾルーゲル新規プロセス開発によるFeRAM用のPZT薄膜の合成とその特性

新型MOCVD/溶胶-凝胶工艺合成FeRAM用PZT薄膜及其性能

基本信息

批准号：
00F00082
负责人：
水谷惟恭
金额：
$ 1.28万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2000
资助国家：
日本
起止时间：
2000 至 2001
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-00F00082/
关键词：

项目摘要

项目成果

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