紫外線がイネの生育に及ぼす影響に関する研究-DNA傷害とその光回復速度からの解析

紫外线对水稻生长影响的研究——DNA损伤及其光恢复率分析

• 批准号: 07760310
• 负责人: 日出間 純
• 金额: $ 0.64万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1995
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1995 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-07760310/
• 关键词: 紫外線; イネ; DNA損傷; ピリミジンダイマー; 光回復; 暗修復; 品種間差

紫外線抵抗性の異なるイネを用い,紫外線UVBによる生育阻害と,UVBによるDNA損傷(Cyclobutyl Pyrimidine Dimers [CPDs]の生成)の頻度及びその修復機能との関係について解析を行った.材料として,紫外線抵抗性の強いササニシキと弱い農林1号の幼植物(第3完全展開葉)を用いた.CPDsの定量は,UV endonucleaseを用いたアルカリパルスフィールド電気泳動法により行った.まず始めに単色光(302nm)照射装置を用いて,UVB照射量に対するCPDs生成量のUV Dose Response Curveを測定した.その結果,両品種間におけるUV Dose Response Curveには差異が認められなかった.次に生成したCPDsの修復機能を比較するため,CPDs生成量がおよそ30,55sites/Mbとなるように各幼植物の葉に照射を行った.照射量は各々400,800J/m^2で,単色光照射後直ちに,青色光ランプ(Philips 15T8/B blue lamps)下または暗所下に移し,CPDs消失のtime courseを測定した,初期ダイマーレベルが30sites/Mbの時,暗修復は両品種ともみとめられなかった.しかしながら,初期ダイマーレベルが55sites/Mbと高くなると,ササニシキ,農林1号で各々0.4,0.08CPD/Mb/minと,抵抗性の強いササニシキの方がおよそ5倍程度速いことがわかった.また、光修復速度を比較すると,初期ダイマーレベルの違いに関わらず,ササニシキの方が速いことがわかった.これらの結果から,両品種間の紫外線抵抗性の差異に,DNA損傷の修復速度の差異が深く関与している可能性が示唆された.尚,これらの研究成果については,現在論文を投稿中である.

使用具有不同紫外线的大米，我们分析了紫外线UVB的抑制频率和DNA损伤（由UVB产生），并使用其维修功能作为.cpds的含量。 Sasanishiki和弱农业和林业（第三个完美的叶子）使用辐照装置进行了碱性场游泳方法，以uv剂量响应曲线进行了uv剂量响应曲线结果，两个品种之间的紫外剂量响应曲线没有差异，以比较该功能，每个儿童植物的叶子被照射，因此CPDS产生的量为30,55个点/MB。 400,800J/m^2，单个彩色灯光（Philips 15t8/b蓝色灯）被转移或在黑暗的地方转移，并且CPD的时间过程消失了。是55个站点/MB，发现Sasanishiki，农业和林业第1、0.4、0.08 cpd/mb/min/min，比较速度的速度约5倍。最初的嘲讽水平，由于两种品种之间的紫外线差异，DNA损伤的差异是非常相关的。