CVD法による酸化リチウム-酸化ホウ素系化合物薄膜の合成
CVD法合成氧化锂-氧化硼复合薄膜
基本信息
- 批准号：04750658
- 负责人：
- 金额：$ 0.58万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份：1992
- 资助国家：日本
- 起止时间：1992 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
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