化学的気相合成によるダイヤモンド薄膜形成における表面反応機構の分子論的解析

化学气相合成金刚石薄膜表面反应机理的分子分析

基本信息

  • 批准号:
    04750178
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.64万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    1992
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1992 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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  • 通讯作者:
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  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
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  • 通讯作者:
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  • 发表时间:
    2006
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kawamura;H.;Ueno;I.;Kazuhiro ISHIMARU;Kazuhiro Ishimaru;Kazuhiro ISHIMARU;Takahisa YAMAMOTO;石丸和博;石丸和博;Kazuhiro ISHIMARU;石丸 和博;Kazuhiro Ishimaru;石丸和博;棚 橋 義 夫;石 丸 和 博
  • 通讯作者:
    石 丸 和 博
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  • 发表时间:
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    石丸 和博

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