重水素添加光CVD法による超高濃度・高品質Si薄膜の低温結晶成長
采用加氘光学CVD法低温晶体生长超高浓度、高质量Si薄膜
基本信息
- 批准号：03750213
- 负责人：
- 金额：$ 0.58万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份：1991
- 资助国家：日本
- 起止时间：1991 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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