化学堆積法によるフッ素系アモルファスシリコン成膜過程のその場赤外観察
化学沉积法氟基非晶硅薄膜形成过程的原位红外观察
基本信息
- 批准号:01750002
- 负责人:
- 金额:$ 0.64万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份:1989
- 资助国家:日本
- 起止时间:1989 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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Haoyu Hu,Fabien Briffod,Takayuki Shiraiwa,Manabu Enoki
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