化学気相堆積法によって作製したヘテロ接合界面のin-situXPSによる評価

使用原位 XPS 评估化学气相沉积制造的异质结界面

基本信息

  • 批准号:
    01790420
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.45万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    1989
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1989 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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  • 通讯作者:
    N. Nagaosa
Cd3As2薄膜における量子ホール効果の観測
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  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    打田 正輝;中澤 佑介;西早 辰一;秋葉 和人;M. Kriener;小塚 裕介;三宅 厚志;田口 康二郎;徳永 将史;永長 直人;十倉 好紀;川崎 雅司
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  • 影响因子:
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  • 作者:
    Koichi Hasebe;Yutaka Onishi;Fumio Koyama;川崎 雅司;Akira Kakugo;T.Hashimoto
  • 通讯作者:
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  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    打田 正輝;中澤 佑介;西早 辰一;秋葉 和人;M. Kriener;小塚 裕介;三宅 厚志;田口 康二郎;徳永 将史;永長 直人;十倉 好紀;川崎 雅司;N. Nagaosa;田端正久
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コンビナトリアル合成が開く金属酸化物の新世界
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Development of metal halide X-nics in high-quality single-crystalline thin films and interfaces
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    $ 0.45万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
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  • 批准号:
    13450123
  • 财政年份:
    2001
  • 资助金额:
    $ 0.45万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    2000
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    11875138
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 0.45万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
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    08750032
  • 财政年份:
    1996
  • 资助金额:
    $ 0.45万
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    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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    07855004
  • 财政年份:
    1995
  • 资助金额:
    $ 0.45万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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    06750013
  • 财政年份:
    1994
  • 资助金额:
    $ 0.45万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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通过超声波激励控制等离子体 CVD 表面反应
  • 批准号:
    05855003
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    1993
  • 资助金额:
    $ 0.45万
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    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
量子構造を持つ酸化物薄膜の作製とその物性の評価
量子结构氧化物薄膜的制备及其物理性能评价
  • 批准号:
    04855047
  • 财政年份:
    1992
  • 资助金额:
    $ 0.45万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)

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    2027
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    2908693
  • 财政年份:
    2027
  • 资助金额:
    $ 0.45万
  • 项目类别:
    Studentship
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