Fabrication of non-close-packed colloidal monolayers utilizing polymer brush-grafted silica particles
利用聚合物刷接枝二氧化硅颗粒制备非密堆积胶体单层
基本信息
- 批准号:26420767
- 负责人:
- 金额:$ 3.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2014
- 资助国家:日本
- 起止时间:2014-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(7)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
高分子修飾シリカ粒子を用いた移流集積における粒子-基板間相互作用の影響
颗粒-基质相互作用对聚合物改性二氧化硅颗粒平流积累的影响
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Kusdianto;玄 大雄;Wuled Lenggoro;林 実樹,川喜田英孝,大渡啓介,森貞真太郎
- 通讯作者:林 実樹,川喜田英孝,大渡啓介,森貞真太郎
カチオン性高分子修飾シリカ粒子を利用した非最密充填構造の粒子膜作製
阳离子聚合物改性二氧化硅颗粒制备非密堆积结构颗粒膜
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Karisma;A.D.;T. Hamaba;T. Fukasawa;A.-N. Huang;T. Segawa;K. Fukui;原奈菜美,川喜田英孝,大渡啓介,森貞真太郎
- 通讯作者:原奈菜美,川喜田英孝,大渡啓介,森貞真太郎
Fabrication of Non-Close-Packed Colloidal Layers by Convective Self-Assembly Using Polyelectrolyte-Grafted Silica Particles
使用聚电解质接枝二氧化硅颗粒通过对流自组装制备非密堆积胶体层
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Shintaro Morisada;Shoko Kojima;Takahiro Sumi;Hidetaka Kawakita;Keisuke Ohto;Shintaro Morisada
- 通讯作者:Shintaro Morisada
アニオン性高分子修飾シリカ粒子を用いた移流集積法のよるコロイド粒子膜の作製
阴离子聚合物改性二氧化硅颗粒平流积聚法制备胶体颗粒膜
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Wan;M. Uraji;○T. Hatanaka;角 崇弘,川喜田英孝,大渡啓介,森貞真太郎
- 通讯作者:角 崇弘,川喜田英孝,大渡啓介,森貞真太郎
Fabrication of non-close-packed colloidal monolayers by convective self-assembly using cationic polyelectrolyte-grafted silica particles
使用阳离子聚电解质接枝二氧化硅颗粒通过对流自组装制备非密堆积胶体单分子层
- DOI:10.1007/s00396-015-3706-5
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:2.4
- 作者:Shintaro Morisada;Shoko Kojima;Takahiro Sumi;Hidetaka Kawakita;Keisuke Ohto
- 通讯作者:Keisuke Ohto
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