電子ビーム蒸着によるAl_2O_3薄膜の製作と化合物半導体界面の電子的性質の研究
电子束蒸发Al_2O_3薄膜制备及化合物半导体界面电子特性研究
基本信息
- 批准号:X00040----220324
- 负责人:
- 金额:$ 1.6万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
- 财政年份:1977
- 资助国家:日本
- 起止时间:1977 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要

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项目成果
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数据更新时间:2024-06-01
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