パルス法およびフロー法によるプラズマ内反応素過程の研究

脉冲法和流动法研究等离子体基元反应过程

基本信息

批准号：
63632004
负责人：
籏野嘉彦
金额：
$ 6.4万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1988
资助国家：
日本
起止时间：
1988 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

反応性プラズマの制御を行うためには、プラズマ内の反応素過程が何であるかを明らかにするとともに、その素過程の断面積または速度定数、反応生成物に関する系統的な研究を行うことが不可欠とされている。反応性プラズマ中の主要な反応活性種は、電子、正負イオン、フリーラジカル、励起原子分子であり、これらが種々の多原子分子と反応を行って複雑な反応系を構成している。本研究では多種類にわたる反応素過程研究法のうちから、上記の目的に最適であると考えられるパルス法とフロー法を互いに相補的に活用して、その目的を達成しようとするものであり、63年度の研究計画は以下の通りであった。すなわち、パルス電子線法により希ガス励起原子とIV族元素の水素化物、そのハロゲン置換体等との反応について、断面積絶対値とその衝突エネルギー依存性を測定するとともに、放電フロー法により希ガス励起原子およびイオンとIV族元素の水素化物等との反応について反応生成物の電子・振動・回転状態を、発光スペクトル法、レーザー誘起蛍光法を組合せて測定すること。ならびに上記の各分子について放射光を用いて、振動子強度強度分布の測定を行うこと。以上である。これらについては、まず、パルス電子線法によりヘリウムの四つの最低励起原子から、代表的なIV族元素であるシラン分子へのエネルギー移動断面積の測定を行った。また放電フロー法を用いて、ヘリウム、アルゴンの準安定励起状態およびヘリウムイオンとシラン、ジシラン分子等との反応生成物の観測を行った。以上の結果は学会において発表されるとともに、内外の学術雑誌に論文として投稿し印刷中(一部投稿中)である。放射光を用いた振動子強度分布の測定については、爆発性試料の導入・排気のための装置を建設しおわり、間もなく測定が開始される。以上ほぼ研究計画通り行なわれた。

为了控制反应性等离子体，必须阐明血浆中的反应性元件过程，并对基本过程的横截面区域或速率常数进行系统研究以及反应产物。反应性等离子体中的主要反应性物质是电子，正离子和负离子，自由基和激发的原子分子，它们与各种多原子分子反应形成复杂的反应系统。这项研究旨在通过使用脉冲和流量方法来实现这一目标，这些方法是从上述目的而被认为是最佳的，从各种研究反应元素的方法中，相互互补的方法，1963年的研究计划如下。也就是说，绝对的横截面值及其在稀有气体激发原子与IV组元素的氢化物与卤素元素的氢化物之间的反应以及卤素溶剂化的物质等的碰撞依赖性是通过脉冲电子束方法和电子，电子，振动和旋转状态通过稀有气体和流动反应的反应的脉冲的振动和旋转状态。结合发射光谱法和激光诱导的荧光法。同样，对于上述每个分子，应使用同步加速器辐射测量振动器强度分布。就这样。为此，首先通过脉冲电子束方法从氦气的四个最低激发原子到硅烷分子（典型的IV元素）的硅烷分子进行测量。此外，使用放电方法观察到了氦气和氩的亚稳态激发态，以及氦离子与硅烷，二硅烷分子等的反应产物。上述结果将在学术会议上提出，目前正在作为国内和国际学术期刊提交论文，目前正在印刷（部分提交）。关于使用Synchrotron Light测量振动器强度分布，将完成用于引入和精疲力尽样品的设备的构建，并将很快开始测量。以上几乎是根据研究计划进行的。