金属人工格子の制御と生成

金属人工晶格的控制与生成

基本信息

批准号：
04224102
负责人：
藤森啓安
金额：
$ 23.42万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1990
资助国家：
日本
起止时间：
1990 至 1992
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究は、重点研「金属人工格子」のA01班であり、金属人工格子の制御と生成について研究することを目的とした。本研究の最終年度である本年は、研究の総仕上げとして以下の成果を挙げた。1)藤森らはプラズマ及びイオンビームスパッタ法により、Co-X/Cu系、FePt/Pt系、Co/Y,Cu,Pt/Gd系の人工格子を作製し、軟磁性巨大磁気抵抗効果,短波長光磁気特性,特異なB-Hヒステレシス特性など、磁気物性並びに磁気応用上興味ある結果を得た。2)松井らは、高性能MBE法により、原子間距離を精密に制御したFCC Fe/CuAu人工格子の合成に成功し、新しいFe磁性の現象を見い出した。3)宮崎らはCo/Al_2O_3/FeNiの三層膜を作り、強磁性トンネル効果についての詳しい挙動を明らかにした。4)寺内らは、超高真空MBE法により、極めて高品位のMo/Si人工格子の作製に成功し、そのもののX線ミラーへの応用を検討した。5)田崎らは、反応蒸着法により、Fe/MgO系の人工格子を作製し界面におけるFe磁性の特異な挙動を明らかにした。6)溝口らは、人工格子の生成機構を調べるためにガラス基板上のCu薄膜の光学特性を測定し、蒸着条件とCu膜のミクロ構造の関係を明らかにした。7)深道らは、多層膜における軟磁性を調べ、高周波における透磁率と多層膜構造の関係を明らかにすると同時に、優れた高周波高透磁率人工格子の作製に成功した。8)鈴木らは、RHEED測定を併用した精密なエピタキシャル成長を行う方法を開発し、極めて高品位なBCC Fe/FCC Au人工格子の作製に成功した。

该研究属于“金属人工晶格”研究所A01组的一部分，其目的是研究金属人工晶格的控制和生成。今年，即本研究的最后一年，我们取得了以下成果作为研究的最终成果。 1）Fujimori等人利用等离子体和离子束溅射方法制备了Co-X/Cu基、FePt/Pt基、Co/Y、Cu、Pt/Gd基人工晶格，并研究了软磁巨磁阻效应和短期我们在磁特性和磁应用方面获得了有趣的结果，例如波长光磁特性和独特的B-H磁滞特性。 2）Matsui等人利用高性能MBE成功合成了原子间距离精确控制的FCC Fe/CuAu人工晶格，并发现了Fe磁性的新现象。 3) Miyazaki等人制备了Co/Al_2O_3/FeNi三层薄膜并阐明了铁磁隧道效应的详细行为。 4) Terauchi等人利用超高真空MBE方法成功制造了极高品质的Mo/Si人工晶格，并研究了其在X射线镜中的应用。 5) Tasaki等人通过反应气相沉积法制备了Fe/MgO基人工晶格，并阐明了界面处Fe磁性的独特行为。 6) Mizoguchi等人测量了玻璃基板上Cu薄膜的光学性质，以研究人工晶格的形成机制，并阐明了沉积条件与Cu薄膜微观结构之间的关系。 7）Fukamichi等人研究了多层薄膜中的软磁性，阐明了高频磁导率与多层薄膜结构之间的关系，同时成功创建了优异的高频高磁导率人工晶格。 8) Suzuki 等人开发了一种利用 RHEED 测量进行精确外延生长的方法，并成功制造了极高品质的 BCC Fe/FCC Au 人造晶格。