光励起下にある溶存金属錯体の構造

光激发下溶解的金属配合物的结构

基本信息

批准号：
04215208
负责人：
海津洋行
金额：
$ 1.09万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1992
资助国家：
日本
起止时间：
1992 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究では基底状態と励起状態でその構造が大きく変化すると考えられるd^<10>電子配置をとる金属錯体([Cu(dmphen)_2]X)の発光状態につてい研究した。(1)CH_2Cl_2,PVAおよびPMMAフィルム中の吸収発光スペクトルの温度変化を測定した。(a)PVA,PMMA中では低温になるほど高波数のピークが減少し、低波数のピークが高くなる。このとき、PMMA膜中の二つの発光についてデコンボリューションを行った結果、長波長側のバンドの位置は変化しないが、短波長側のものはレッドシフトし、強度が弱くなることが明らかになった。(b)CH_2Cl_2中では低温になるにつれ発光極大がレッドシフトし、強度は弱くなる。(2)室温でPVA,PMMA膜中の励起スペクトルのポーラリゼーションを測定した。吸収極大位置でP=1/2となり、またそれより〜5000cm^<-1>高波数側でP〜Oとなり、この領域に互いに直交する遷移モーメントをもつ状態の存在が明らかになった。(3)DV-Xα法により[Ct(α-diimine)_2]^+の最低励起状態について明らかにした。最低励起電荷移動状態について、遷移状態法を用いてそのエネルギーを見積り、最低電荷移動状態は発光状態と同じ方向の遷移モーメンとをもち、それより高波数側にこれと直交するポーラリゼーションをもつ状態があり、(2)で得られた結果を再現することができた。

在这项研究中，我们研究了具有 d^<10> 电子构型的金属配合物 ([Cu(dmphen)_2]X) 的发光态，其结构被认为在基态和激发态之间发生显着变化。 (1)测量了CH_2Cl_2、PVA和PMMA薄膜的吸收光谱和发射光谱的温度变化。 (a) 在PVA和PMMA中，温度越高，高波数的峰值越低，低波数的峰值越高。此时，对PMMA膜中的两次发射进行去卷积的结果表明，较长波长侧的谱带位置没有变化，但较短波长侧的谱带发生了红移，并且强度变弱了。 (b) 在CH_2Cl_2中，随着温度降低，发射最大值红移且强度变弱。 (2)在室温下测量PVA和PMMA薄膜的激发光谱的偏振。吸收极大位置处P=1/2，波数高约5000cm^<-1>处P~O，揭示了该区域存在相互正交跃迁矩的态。 (3)采用DV-Xα法明确了[Ct(α-二胺)_2]^+的最低激发态。使用过渡态方法估计最低激发电荷转移态的能量，并且最低电荷转移态具有与发射态相同方向的跃迁矩，并且在较高波数条件下具有与其正交的偏振，我们能够重现 (2) 中获得的结果。