低エネルギーフォトン励起による近赤外エンジニアリングと非侵襲デバイス応用
使用低能光子激发的近红外工程和非侵入性设备应用
基本信息
- 批准号：23H01676
- 负责人：
- 金额：$ 12.06万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2023
- 资助国家：日本
- 起止时间：2023-04-01 至 2026-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
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会议论文数量（0）
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高橋 儀宏其他文献
b軸配向したスピン梯子系Sr14Cu24O41スパッタ膜の形成機構とその熱伝導率
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- 发表时间：
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- 影响因子：0
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- 发表时间：
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- DOI：
- 发表时间：
2017 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
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Shinji Watanabe
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- DOI：
- 发表时间：
2021 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
木下 大也;寺門 信明;高橋 儀宏;藤原 巧 - 通讯作者：
藤原 巧
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光非線形透明結晶化ガラスの創製とフォトニック結晶及び短波長固体レーザーへの応用
光学非线性透明微晶玻璃的制备及其在光子晶体和短波长固体激光器中的应用
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01J04156 - 财政年份：2001
- 资助金额：
$ 12.06万 - 项目类别：
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10780316 - 财政年份：1998
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$ 12.06万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)