Tuning of electronic property and chemical reactivity of a two-dimensional silicon structure

二维硅结构的​​电子特性和化学反应性的调节

• 批准号: 26248006
• 负责人: OKADA Michio
• 金额: $ 27.21万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
• 财政年份: 2014
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2014-04-01 至 2017-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-26248006/
• 关键词: 表面・界面; 表面反応; ２次元シリコン構造; 2次元シリコン構造; ２次元Si構造

项目成果

Adsorption and reaction of C2H4 on Cu(410) stepped surface

C2H4在Cu(410)阶梯表面上的吸附与反应

• 发表时间: 2014
• 作者: T. Makino;M. Okada
• 通讯作者: M. Okada

Cu(410)表面への共吸着と反応性におけるステップの効果

步骤对 Cu(410) 表面共吸附和反应性的影响

• 发表时间: 2014
• 作者: 牧野隆正;岡田美智雄
• 通讯作者: 岡田美智雄

超熱エネルギー酸素分子によるCu3Pd(111)合金表面の酸化過程

Cu3Pd(111)合金表面超热能氧分子氧化过程

• 发表时间: 2016
• 作者: 津田泰孝;岡田美智雄
• 通讯作者: 岡田美智雄

H2 Hindered Rotation and Ortho-Para Conversion on Pd(210)

Pd(210) 上的 H2 受阻旋转和邻位-对位转换

• 发表时间: 2017
• 作者: Elvis Flaviano Arguelles;Hideaki Kasai;Wilson Agerico Dino
• 通讯作者: Wilson Agerico Dino

The reactivity of methyl chloride with Si/Cu(410) and Si/Ag(111) superstructures

氯甲烷与Si/Cu(410)和Si/Ag(111)超结构的反应性

• 发表时间: 2017
• 作者: K. Takeyasu;M. Okada
• 通讯作者: M. Okada