Development of vertical-type spin MOSFET with Schottky source and drain

肖特基源漏垂直型自旋MOSFET的开发

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Exchange coupling in metallic multilayers with a top FeRh layer
金属多层膜与顶部 FeRh 层的交换耦合
  • DOI:
    10.1063/1.4943606
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.6
  • 作者:
    S. Yamada;K. Tanikawa;J. Hirayama;T. Kanashima;T. Taniyama;K. Hamaya
  • 通讯作者:
    K. Hamaya
All-epitaxial Co2FeSi/Ge/Co2FeSi trilayers fabricated by Sn-induced low-temperature epitaxy
Sn诱导低温外延制备全外延Co2FeSi/Ge/Co2FeSi三层材料
  • DOI:
    10.1063/1.4940702
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.2
  • 作者:
    S. Yamada;K. Tanikawa;J. Hirayama;T. Kanashima;T. Taniyama;and K. Hamaya
  • 通讯作者:
    and K. Hamaya
Spin transport and accumulation in n+-Si using Heusler compound Co2FeSi/MgO tunnel contacts
  • DOI:
    10.1063/1.4929888
  • 发表时间:
    2015-08-31
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4
  • 作者:
    Ishikawa, Mizue;Sugiyama, Hideyuki;Saito, Yoshiaki
  • 通讯作者:
    Saito, Yoshiaki
Spin injection, detection and local magnetoresistance through Si at room temperature in ferrmagnet/MgO/Si lateral spin valves
铁磁体/MgO/Si 横向自旋阀中室温下通过 Si 的自旋注入、检测和局部磁阻
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Saito;M. Ishikawa;T. Inokuchi;H. Sugiyama;T. Tanamoto;N. Tezuka;K. Hamaya,
  • 通讯作者:
    K. Hamaya,
結晶性La2O3 /Ge(111)における電気特性のアニール効果
退火对晶体La2O3 /Ge(111)电性能的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    銭高 真人;梶原 康裕;山田 晋也;浜屋宏平;金島 岳
  • 通讯作者:
    金島 岳
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Hamaya Kohei其他文献

Local Magnetoresistance at Room Temperature in Si<100> Devices
Si<100> 器件中室温下的局部磁阻
  • DOI:
    10.1109/tmag.2018.2849753
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.1
  • 作者:
    Ishikawa Mizue;Tsukahara Makoto;Yamada Michihiro;Saito Yoshiaki;Hamaya Kohei
  • 通讯作者:
    Hamaya Kohei
A drastic increase in critical thickness for strained SiGe by growth on mesa-patterned Ge-on-Si
通过在台面图案的硅基硅上生长,应变硅锗的临界厚度急剧增加
  • DOI:
    10.35848/1882-0786/abd4c5
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.3
  • 作者:
    Wagatsuma Youya;Alam Md. Mahfuz;Okada Kazuya;Yamada Michihiro;Hamaya Kohei;Sawano Kentarou
  • 通讯作者:
    Sawano Kentarou
(Invited) Strain Engineering of Si/Ge Heterostructures on Ge-on-Si Platform
(特邀)Ge-on-Si平台上Si/Ge异质结构的应变工程
  • DOI:
    10.1149/09805.0267ecst
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Sawano Kentarou;Youya Wagatsuma;Alam Md. M;Omata Kaisei;Niikura Kenta;Shibata Shougo;Hoshi Yusuke;Yamada Michihiro;Hamaya Kohei
  • 通讯作者:
    Hamaya Kohei
Long-distance spin transport in strained SiGe
应变 SiGe 中的长距离自旋输运
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Naito Takahiro;Yamada Michihiro;Wagatsuma Youya;Sawano Kentarou;Hamaya Kohei
  • 通讯作者:
    Hamaya Kohei
ヘキシル基置換(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー単結晶の作製とその光学特性
己基取代(噻吩/亚苯基)共低聚物单晶的制备及其光学性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Tajiri Hiroo;Kumara Loku Singgappulige Rosantha;Sakuraba Yuya;Chen Zixi;Wang Jian;Zhou Weinan;Varun Kushwaha;Ueda Kenji;Yamada Shinya;Hamaya Kohei;Hono Kazuhiro;菅原 拓実,水野 斎,甚上 知美,佐々木 史雄,柳 久雄
  • 通讯作者:
    菅原 拓実,水野 斎,甚上 知美,佐々木 史雄,柳 久雄

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  • 通讯作者:
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