In situ three-dimensional measurement of wide bandgap semiconductors with stimulated Raman scattering

利用受激拉曼散射对宽带隙半导体进行原位三维测量

基本信息

  • 批准号:
    23H00271
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 23.88万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 财政年份:
    2023
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2023-04-01 至 2027-03-31
  • 项目状态:
    未结题

项目摘要

项目成果

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