Fabrication of (Bi,Pb)2Sr2Ca2Cu3Ox Thin Films

(Bi,Pb)2Sr2Ca2Cu3Ox 薄膜的制备

基本信息

  • 批准号:
    22246079
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 31.45万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 财政年份:
    2010
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2010 至 2012
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

This research has tried to produce thin films of single phase Bi,Pb-2223 high Tc superconductor in order to understand its potential. We fabricated the Bi-2223 thin films (not containing Pb) on STO(100) substrates, subsequently carried out annealing with Bi,Pb-2223 pellets at 840oC for 100 hours to introduce Pb. Finally, we carried out post annealing in oxygen following atmosphere. We have succeeded in fabricating a thin film with Jc=0.9x106 A/cm2 (77 K, self-magnetic field). Furthermore, it was possible to simulate for the first time in thin films for the reaction process of Bi2212 + CaCuPbO → Bi2223.
本研究尝试生产单相 Bi,Pb-2223 高 Tc 超导体薄膜,以了解其潜力。我们在 STO(100) 基底上制备 Bi-2223 薄膜(不含 Pb),随后进行退火。用Bi,Pb-2223颗粒在840oC下100小时引入Pb最后,我们在氧气气氛下进行后退火我们成功了。制备了Jc=0.9x106 A/cm2(77 K,自磁场)的薄膜,并首次在薄膜中模拟了Bi2212 + CaCuPbO → Bi2223 的反应过程。

项目成果

期刊论文数量(31)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Microstructures and superconducting properties of Bi-2223 thin film fabricated by sputtering method
溅射法制备Bi-2223薄膜的微结构和超导性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Masayoshi Nakamura;Yuji Takatsuka;Hideki Kato;Masato Kakihana;松本明善
  • 通讯作者:
    松本明善
積層薄膜法によるPbを含む高温超伝導相Bi-2223薄膜の作製
层状薄膜法制备含Pb高温超导相Bi-2223薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y.Nambu;J.Jiao;N.Takiyama;Y.Hayashi;松本 明善
  • 通讯作者:
    松本 明善
スパッタ法で作製したBi,Pb2223薄膜の微細組織と超伝導特性
溅射法制备Bi,Pb2223薄膜的微观结构与超导性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    依田浩敏;赤司泰義;高偉俊・葛隆生;住吉大輔;前田昌一郎;松本 明善
  • 通讯作者:
    松本 明善
The microstructure and superconducting properties of Bi,Pb-2223 thin film fabricated by sputtering method
溅射法制备Bi,Pb-2223薄膜的微观结构和超导性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Sugino;N. Takiyama;Y. Onishi;Y. Hayashi;H. Takahashi;松本 明善
  • 通讯作者:
    松本 明善
スパッタリング法により作製したBi,Pb-2223薄膜の臨界電流密度
溅射法制备Bi,Pb-2223薄膜的临界电流密度
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    土屋 啓輔
  • 通讯作者:
    土屋 啓輔
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    26288012
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    2014
  • 资助金额:
    $ 31.45万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

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三层铋基高温超导体的晶体生长
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    2007
  • 资助金额:
    $ 31.45万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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