Emergence of giant piezoelectric properties in non-perovskite zirconia-based ferroelectrics

非钙钛矿氧化锆基铁电体中出现巨压电特性

• 批准号: 25889024
• 负责人: SHIMIZU Takao
• 金额: $ 1.75万
• 依托单位: Tokyo Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
• 财政年份: 2013
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2013-08-30 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-25889024/
• 关键词: 圧電; 蛍石型酸化物; 強弾性; 強誘電性; 強誘電体; 蛍石型構造; エピタキシャル薄膜; 強弾性体; 薄膜; エピタキシャル成長

项目成果

斜方晶相を含むエピタキシャルHfO2基薄膜の結晶構造解析

含斜方相的外延 HfO2 基薄膜的晶体结构分析

• 发表时间: 2015
• 作者: 1154)片山きりは;清水荘雄;横内達彦;白石貴久;及川貴弘;木口賢紀;赤間章裕;今野豊彦;内田寛;舟窪浩
• 通讯作者: 舟窪浩

HfO2 ベース新規誘電体薄膜の特性の評価

新型 HfO2 基介电薄膜的性能评估

• 发表时间: 2014
• 作者: 横内達彦;清水荘雄;及川貴弘;白石貴 久;舟窪浩
• 通讯作者: 舟窪浩

Study on the effect of heat treatment conditions on metalorganic-chemical-vapor-deposited ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin film on Ir electrode

• DOI: 10.7567/jjap.53.09pa04
• 发表时间: 2014-09
• 期刊: Japanese Journal of Applied Physics
• 影响因子: 1.5
• 作者: Takao Shimizu;T. Yokouchi;T. Shiraishi;T. Oikawa;P. Krishnan;H. Funakubo

Ferroelectric Property in HfO2-ZrO2 Film with Various Metal Electrodes

不同金属电极HfO2-ZrO2薄膜的铁电性能

• 发表时间: 2014
• 作者: T. Shimizu;T. Yokouchi;T. Oikawa;T. Shiraishi;T. Kiguchi;A. Akama;T.J. Konno;D.J. Kim;A. Gruverman;and H. Funakubo
• 通讯作者: and H. Funakubo

Pt 電極上に堆積した(Hf,Zr)O2 薄膜の強誘電特性

Pt电极上沉积的(Hf,Zr)O2薄膜的铁电性能

• 发表时间: 2014
• 作者: 清水荘雄;横内達彦;白石貴久;及川貴弘;舟窪 浩
• 通讯作者: 舟窪 浩