Development of hybrid system of double-sided- and tandem- interferometer for precise measurement of refractive index and its temperature dependence of silicon

开发双面和串联干涉仪混合系统，用于精确测量硅的折射率及其温度依赖性

基本信息

批准号：
21K20421
负责人：
KAWASHIMA Natsumi
金额：
$ 2万
依托单位：
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
财政年份：
2021
资助国家：
日本
起止时间：
2021-08-30 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

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