Fabrication of electrically pumped ZnO polariton laser operating at room temperature

室温下工作的电泵浦 ZnO 极化子激光器的制造

基本信息

  • 批准号:
    17H06514
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
  • 财政年份:
    2017
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2017-08-25 至 2019-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(11)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
反応性ヘリコン波励起プラズマスパッタ法による誘電体分布ブラッグ反射鏡の形成(1)
反应螺旋波激发等离子体溅射法形成介质分布布拉格反射器(一)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    粕谷拓生;嶋紘平; 菊地清;小島一信;秩父重英
  • 通讯作者:
    秩父重英
時間分解フォトルミネッセンスによるZnOのプロセス誘起欠陥の評価
通过时间分辨光致发光评估 ZnO 中工艺引起的缺陷
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    粕谷拓生;嶋紘平;小島一信;秩父重英
  • 通讯作者:
    秩父重英
反応性ヘリコン波励起プラズマスパッタ法によるSiO2/HfO2誘電体分布ブラッグ反射鏡の作製
反应螺旋波激发等离子体溅射法制备SiO2/HfO2介质分布式布拉格反射器
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    嶋紘平;粕谷拓生;小島一信;秩父重英
  • 通讯作者:
    秩父重英
反応性ヘリコン波励起プラズマスパッタ法による誘電体分布ブラッグ反射鏡の形成(2)
反应螺旋波激发等离子体溅射法形成介质分布布拉格反射器(2)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    嶋紘平;粕谷拓生;菊地清;小島一信;秩父重英
  • 通讯作者:
    秩父重英
Fabrication of a ZnO-based microcavity using the reactive helicon-wave-excited-plasma sputtering method
采用反应螺旋波激发等离子体溅射法制备 ZnO 基微腔
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Kasuya;K. Shima;K. Kojima;K. Furusawa;and S. F. Chichibu
  • 通讯作者:
    and S. F. Chichibu
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Shima Kohei其他文献

SICMを用いたがん細胞の評価
使用 SICM 评估癌细胞
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Uedono Akira;Tanaka Ryo;Takashima Shinya;Ueno Katsunori;Edo Masaharu;Shima Kohei;Kojima Kazunobu;Chichibu Shigefusa F.;Ishibashi Shoji;Tomi Ohtsuki;石田 暢之;渡邉信嗣
  • 通讯作者:
    渡邉信嗣
Analysis of KS eigenfunctions using a CNN in simulations of the MIT in doped semiconductors
在掺杂半导体的 MIT 模拟中使用 CNN 分析 KS 特征函数
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Uedono Akira;Tanaka Ryo;Takashima Shinya;Ueno Katsunori;Edo Masaharu;Shima Kohei;Kojima Kazunobu;Chichibu Shigefusa F.;Ishibashi Shoji;Tomi Ohtsuki
  • 通讯作者:
    Tomi Ohtsuki
Reactive RF magnetron sputtering epitaxy of NiO thin films on (0001) sapphire and (100) MgO substrates
(0001) 蓝宝石和 (100) MgO 衬底上反应射频磁控溅射外延 NiO 薄膜
  • DOI:
    10.35848/1347-4065/ac4392
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Nishimoto Keisuke;Shima Kohei;Chichibu Shigefusa F.;Sugiyama Mutsumi
  • 通讯作者:
    Sugiyama Mutsumi
ケルビンプローブフォース顕微鏡によるオペランド電位計測技術
使用开尔文探针力显微镜的操作电位测量技术
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Uedono Akira;Tanaka Ryo;Takashima Shinya;Ueno Katsunori;Edo Masaharu;Shima Kohei;Kojima Kazunobu;Chichibu Shigefusa F.;Ishibashi Shoji;Tomi Ohtsuki;石田 暢之
  • 通讯作者:
    石田 暢之

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  • 作者:
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  • 通讯作者:
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    2019
  • 资助金额:
    $ 1.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists

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    2019
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    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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    2015
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    22340084
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    2010
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    $ 1.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    08J09521
  • 财政年份:
    2008
  • 资助金额:
    $ 1.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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