Creation of highly-efficient spin injection source by interface modification in half-metallic oxides
通过半金属氧化物界面修饰创建高效自旋注入源
基本信息
- 批准号:17H06482
- 负责人:
- 金额:$ 1.91万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
- 财政年份:2017
- 资助国家:日本
- 起止时间:2017-08-25 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(30)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
InGaAs量子ドットにおけるスピン注入ダイナミクスに対するスピン充填効果
自旋填充对 InGaAs 量子点自旋注入动力学的影响
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:樋浦 諭志;武石 一紀;浦部 晶行;板橋 皓大;高山 純一;木場 隆之;村山 明宏
- 通讯作者:村山 明宏
Fe3O4(001)表面上の炭素吸着に関する研究
Fe3O4(001)表面碳吸附研究
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:大見奎人;高田慎;高橋聡太朗;山崎陸;樋浦諭志;Subagyo Agus;末岡和久
- 通讯作者:末岡和久
Modal Gain at Excited States in High-Density InGaAs Quantum Dots Investigated by Variable Stripe Length Method
可变条带长度法研究高密度 InGaAs 量子点激发态模态增益
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:A. Ohtake;S. Hiura;A. Washida;J. Takayama;and A. Murayama
- 通讯作者:and A. Murayama
Electron-transfer-induced metallic electronic states in a H/Fe3O4(001) film subsurface
- DOI:10.7567/1882-0786/ab10ce
- 发表时间:2019-04
- 期刊:
- 影响因子:2.3
- 作者:S. Hiura;A. Subagyo;A. Murayama;K. Sueoka
- 通讯作者:S. Hiura;A. Subagyo;A. Murayama;K. Sueoka
Influence of multilayer stacking on spin dynamics at excited states of vertically coupled InGaAs quantum dots
多层堆叠对垂直耦合InGaAs量子点激发态自旋动力学的影响
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Saito;S. Hiura;J. Takayama;and A. Murayama
- 通讯作者:and A. Murayama
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
Hiura Satoshi其他文献
アルミニウム合金の加工熱処理工程における組織形成機構の解明
阐明铝合金热处理过程中的组织形成机制
- DOI:
- 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:0
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池田賢一
Lunatic fringe promotes the aggregation of CADASIL NOTCH3 mutant proteins
疯狂边缘促进 CADASIL NOTCH3 突变蛋白的聚集
- DOI:
10.1016/j.bbrc.2021.04.031 - 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:3.1
- 作者:
Suzuki Shodai;Hiura Satoshi;Mashiko Taiki;Matsumoto Takemi;Itoh Motoyuki - 通讯作者:
Itoh Motoyuki
半導体ナノ構造の熱電特性
半导体纳米结构的热电性能
- DOI:
- 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Minehisa Keisuke;Murakami Ryo;Hashimoto Hidetoshi;Nakama Kaito;Sakaguchi Kenta;Tsutsumi Rikuo;Tanigawa Takeru;Yukimune Mitsuki;Nagashima Kazuki;Yanagida Takeshi;Sato Shino;Hiura Satoshi;Murayama Akihiro;Ishikawa Fumitaro;中村 芳明 - 通讯作者:
中村 芳明
Ab-initio modeling of non-collinear antiferromagnets
非共线反铁磁体的从头算建模
- DOI:
- 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Hiura Satoshi;Urabe Masayuki;Takeishi Kazuki;Itabashi Kodai;Takayama Junichi;Kiba Takayuki;Sueoka Kazuhisa;Murayama Akihiro;Ryotaro Arita - 通讯作者:
Ryotaro Arita
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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Room temperature spin-polarized light emission by excited spin engineering of size-modulated coupled quantum dots
尺寸调制耦合量子点激发自旋工程的室温自旋偏振光发射
- 批准号:
19K15380 - 财政年份:2019
- 资助金额:
$ 1.91万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
相似海外基金
化学修飾によるホモキラルなグラフェン表面の創出
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- 批准号:
22J11635 - 财政年份:2022
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$ 1.91万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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阐明通过表面改性改善氧化铁表面自旋极化的机制并验证其有效性
- 批准号:
16J00053 - 财政年份:2016
- 资助金额:
$ 1.91万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Study of nano-scale surface modification processes induced by slow highly charged ion collisions
由缓慢的高电荷离子碰撞引起的纳米级表面改性过程的研究
- 批准号:
23740306 - 财政年份:2012
- 资助金额:
$ 1.91万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
擬一次元ナノ構造物質の表面光化学
准一维纳米结构材料的表面光化学
- 批准号:
14050042 - 财政年份:2002
- 资助金额:
$ 1.91万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
表面ディールスアルダー反応による半導体表面の化学修飾
通过表面狄尔斯-阿尔德反应对半导体表面进行化学修饰
- 批准号:
02F00606 - 财政年份:2002
- 资助金额:
$ 1.91万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows