GaAsのピコ秒パルス励起による高密度電子-正孔プラズマの研究
GaAs皮秒脉冲激发高密度电子空穴等离子体的研究
基本信息
- 批准号：X00095----465006
- 负责人：
- 金额：$ 0.29万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for General Scientific Research (D)
- 财政年份：1979
- 资助国家：日本
- 起止时间：1979 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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- 影响因子：0
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- 批准号：
56750013 - 财政年份：1981
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- 批准号：
X00210----575013 - 财政年份：1980
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