非接触プラズマの動的過程の総合的理解

全面了解非接触等离子体的动态过程

基本信息

批准号：
09780466
负责人：
大野哲靖
金额：
$ 1.15万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1997
资助国家：
日本
起止时间：
1997 至 1998
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-09780466/
关键词：
非接触プラズマプラズマデタッチメントダイバータ放射再結合 3体再結合プラズマ熱流パルスプラズマ高エネルギー電子ダイバータプラズマ模擬試験装置三体再結合分子活性再結合プローブ計測局所部分熱平衡

项目摘要

平成10年度の結果を以下にまとめる。直線型ダイバータプラズマ模擬試験装置において,非接触プラズマに熱パルスを印加し,非接触プラズマの動的応答を調べた.(1) 直流放電電流を変調することにより熱パルスを生成し、非接触ヘリウムプラズマへ導入を可能にした.(2) 非接触プラズマ中の中性ヘリウム原子の各励起準位からの可視発光スペクトルの時間発展を計測したところ,熱パルス印加時には低励起準位(量子単位n〜3、4)からの発光強度は増加するのに対して,高励起準位からの発光強度は減少することが実験的に観測された.(3) 衝突輻射モデル(CHAMD code)による解析結果との比較により、観測された発光スペクトルの時間変化はバルクの電子温度の変化では説明することが出来ず,高エネルギー電子の存在を仮定することにより統二的に説明可能なことが分かった.また高エネルギー電子の密度はバルク電子密度の約0.5%程度であることが明らかになった.(4) 熱パルス消失後、急激な3体再結合過程の増加が観測された.この実験結果により、熱パルス印加中において,3体再結合によって生成される高励起状態の原子が、高エネルギー電子の衝突により容易に電離することにより,実効的に再結合過程が弱められていることが明らかになった.

1998 年的结果总结如下。在线性偏滤器等离子体模拟测试装置中，对非接触等离子体施加热脉冲，研究非接触等离子体的动态响应（1）通过调制直流放电电流产生热脉冲，并研究非接触等离子体的动态响应。非接触式氦气使得将其引入等离子体成为可能。(2)当我们测量非接触等离子体中中性氦原子每个激发能级的可见发射光谱的时间演化时，我们发现当热脉冲时，低激发能级（量子单位n~3、4）的发射强度增加另一方面，实验观察到高激发能级的发射强度降低。(3)碰撞辐射模型(CHAMD)。与使用以下代码获得的分析结果进行比较表明，观察到的发射光谱的时间变化不能用体电子温度的变化来解释，但可以通过假设高能电子的存在来统一解释。揭示高能电子密度约为体电子密度的0.5%。(4)热脉冲消失后，观察到三体复合过程迅速增加。该实验结果表明，在热脉冲的施加过程中，三体复合产生的高度激发的原子受到高能电子的轰击。已经清楚的是，粒子的容易电离有效地削弱了复合过程。