プラズマプロセスにより作製したシリコン量子ドットの物性評価と電子デバイスへの応用

等离子体工艺制备硅量子点的物理性能评价及其在电子器件中的应用

基本信息

  • 批准号:
    09750343
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.22万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    1997
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1997 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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  • 期刊:
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