官能基修飾グラフェンを用いたギ酸クロスオーバー抑制バイポーラ膜の創出
使用官能团修饰的石墨烯创建具有抑制甲酸交叉的双极膜
基本信息
- 批准号：24K17763
- 负责人：
- 金额：$ 3.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
- 财政年份：2024
- 资助国家：日本
- 起止时间：2024-04-01 至 2026-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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会议论文数量（0）
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- 影响因子：0
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大友 明，相馬 拓人
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- DOI：
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