Electrochemical Impedance Spectrocopy under a Thin Electrolyte Film

电解质薄膜下的电化学阻抗谱

基本信息

  • 批准号:
    26630329
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(8)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
薄膜水下での電気化学計測と大気腐食研究への応用
薄膜水电化学测量及其在大气腐蚀研究中的应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Chulaluk Somphotoch;Eiji Tada;Atsushi Nishikata;西方 篤
  • 通讯作者:
    西方 篤
A Method for Determining the Corrosion Rate of a Metal under a Thin Electrolyte Film
  • DOI:
    10.1149/2.0101504jes
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.9
  • 作者:
    Yanzhuo Shi;E. Tada;A. Nishikata
  • 通讯作者:
    Yanzhuo Shi;E. Tada;A. Nishikata
Corrosion Behavior of Zn under Thin Solution Films
溶液薄膜下Zn的腐蚀行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Chulaluk Somphotoch;Eiji Tada;Atsushi Nishikata
  • 通讯作者:
    Atsushi Nishikata
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Nishikata Atsushi其他文献

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我国核废料处置库预选北山地区碳钢、钛及钛合金在模拟地下水中的腐蚀行为
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    10.1080/1478422x.2017.1319682
  • 发表时间:
    2017-04
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.8
  • 作者:
    Zhang Qichao;Zheng Min;Huang Yanliang;Nishikata Atsushi;Lu Dongzhu;Zhang Jie;Wang Xiutong;Wen Juan;Li Yuhong;Liu Yuemiao
  • 通讯作者:
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  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.9
  • 作者:
    Shigihara Yuichi;Ooi Azusa;Tada Eiji;Nishikata Atsushi
  • 通讯作者:
    Nishikata Atsushi
Pt-Cu合金から溶解するPtおよびCuのその場検出
Pt-Cu合金中Pt和Cu溶解的原位检测
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shigihara Yuichi;Ooi Azusa;Tada Eiji;Nishikata Atsushi;大井 梓,多田 英司,西方 篤
  • 通讯作者:
    大井 梓,多田 英司,西方 篤

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