Development of the miniaturized hydrocarbon sensor using the nanocarbon multilayers
使用纳米碳多层的小型化碳氢化合物传感器的开发
基本信息
- 批准号：25600123
- 负责人：
- 金额：$ 2.58万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份：2013
- 资助国家：日本
- 起止时间：2013-04-01 至 2015-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（23）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
The challenges and issues of plasma-assisted adhesion improvement
等离子体辅助附着力改善的挑战和问题
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. Tajima
- 通讯作者：S. Tajima
Low-speed etching technique and etching equipment using F2 and NO2 gases
使用F2和NO2气体的低速蚀刻技术和蚀刻设备
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
- 通讯作者：
Chemical Dry Etching of the Si Sacrificial Layer in MEMS Devices
MEMS 器件中硅牺牲层的化学干法蚀刻
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. Tajima;T. Hayashi;M. Sasaki
- 通讯作者：M. Sasaki
Anisotropic chemical dry silicon wafer etching using F2 + NO  F + FNO reaction
使用 F2 NO 的各向异性化学干法硅片蚀刻
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. Tajima;T. Hayashi;K. Yamakawa;M. Sasaki;K. Ishikawa;M. Sekine;M. Hori
- 通讯作者：M. Hori
Si chemical dry etching in NOx (x=1 or 2) / F2 gas mixture at an elevated temperature (II)
高温下在 NOx (x=1 或 2)/F2 气体混合物中进行 Si 化学干法蚀刻 (II)
- DOI：
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. Tajima;T. Hayashi;K. Ishikawa;M. Sekine;and M. Hori
- 通讯作者：and M. Hori
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