Challenge to fabricate 3D structure of atomically thin TMDC film for future 2D-MISFET

为未来 2D-MISFET 制造原子级薄 TMDC 薄膜 3D 结构的挑战

基本信息

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拉曼光谱评价直流偏压溅射法制备的MoS2薄膜

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Oyanagi Yuya;Ishihara Seiya;Hibino Yusuke;Sawamoto Naomi;Ohashi Takumi;Matsuura Kentarou;Wakabayashi Hitoshi;Ogura Atsushi
通讯作者：
Ogura Atsushi

使用光谱光电子全息术对掺杂硅中的多个掺杂位点进行单独原子成像

DOI：
10.1021/acs.nanolett.7b03467
发表时间：
2017
期刊：
Nano Letters
影响因子：
10.8
作者：
Tsutsui Kazuo;Matsushita Tomohiro;Natori Kotaro;Muro Takayuki;Morikawa Yoshitada;Hoshii Takuya;Kakushima Kuniyuki;Wakabayashi Hitoshi;Hayashi Kouichi;Matsui Fumihiko;Kinoshita Toyohiko
通讯作者：
Kinoshita Toyohiko

视障人士柔道比赛中战术行为的有效性

DOI：
10.11214/budo.2005
发表时间：
2021
期刊：
Research Journal of Budo
影响因子：
0
作者：
Matsushita Mami;Nirengi Shinsuke;Hibi Masanobu;Wakabayashi Hitoshi;Lee Sang-il;Domichi Masayuki;Sakane Naoki;Saito Masayuki;佐藤伸一郎，竹澤稔裕，前川直也，伊藤　潔，木村昌彦，廣瀬伸良
通讯作者：
佐藤伸一郎，竹澤稔裕，前川直也，伊藤　潔，木村昌彦，廣瀬伸良

直流偏压高温溅射制备WS2薄膜

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Oyanagi Yuya;Ishihara Seiya;Hibino Yusuke;Sawamoto Naomi;Ohashi Takumi;Matsuura Kentarou;Wakabayashi Hitoshi;Ogura Atsushi
通讯作者：
Ogura Atsushi

Rac1调控分子Rich2在神经发育中的表达谱分析

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Matsushita Mami;Nirengi Shinsuke;Hibi Masanobu;Wakabayashi Hitoshi;Lee Sang-il;Domichi Masayuki;Sakane Naoki;Saito Masayuki;後藤直樹　西川将司　木下専　永田浩一
通讯作者：
後藤直樹　西川将司　木下専　永田浩一