汎用SEMとステンシルマスクを用いた近接転写による簡易電子線リソグラフィ法の開発

使用通用 SEM 和使用近距离传输的模板掩模开发简单的电子束光刻方法

基本信息

  • 批准号:
    24H02574
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.3万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Scientists
  • 财政年份:
    2024
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2024-04-01 至 2025-03-31
  • 项目状态:
    未结题

项目摘要

项目成果

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  • 影响因子:
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  • 通讯作者:
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