モノライク合成技術に基づく狭ギャップIV族半導体薄膜の物性制御と太陽電池応用
基于单体合成技术的窄带隙IV族半导体薄膜物性控制及太阳能电池应用
基本信息
- 批准号：23KJ0271
- 负责人：
- 金额：$ 2.69万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for JSPS Fellows
- 财政年份：2023
- 资助国家：日本
- 起止时间：2023-04-25 至 2026-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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