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酸化物原子膜による革新的エピタキシー技術の創成
使用氧化物原子膜创建创新外延技术
基本信息
- 批准号：23K17956
- 负责人：
- 金额：$ 4.16万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
- 财政年份：2023
- 资助国家：日本
- 起止时间：2023-06-30 至 2025-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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Creation of Innovative Energy Storage Devices Using Atomic Layer Technology
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- 批准号：
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- 批准号：
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针对高性能三维器件的ALD法金属氧化物半导体薄膜形成技术研究
- 批准号：
22H01958 - 财政年份：2022
- 资助金额：
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