Surface termination that plays important roles in structural and physical properties of silicon nanocrystals - For a variety of device formations

表面终止在硅纳米晶体的结构和物理特性中发挥着重要作用 - 适用于各种器件形成

基本信息

批准号：
18K04242
负责人：
Sato Seiichi
金额：
$ 2.83万
依托单位：
University of Hyogo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
起止时间：
2018-04-01 至 2022-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（5）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

水溶性ゲルマニウムナノ粒子の作製と熱・光による粒子の構造変化

水溶性锗纳米粒子的制备及其热光结构变化

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
大砂滉志郎;木村健太;坪田秀平;小林幹弘;藤田和宣;佐藤井一
通讯作者：
佐藤井一

光で結晶化するナノシリコンインク

光作用下结晶的纳米硅墨水

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
佐藤井一
通讯作者：
佐藤井一

Crystal structure distortion of silicon and germanium nanocrystals: Tendency toward compact phase formation

硅和锗纳米晶体的晶体结构畸变：致密相形成的趋势

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
S. Sato
通讯作者：
S. Sato

水溶性ゲルマニウムナノ粒子の作製と熱・光による粒子の構造変化

水溶性锗纳米粒子的制备及其热光结构变化

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
大砂滉志郎;木村健太;坪田秀平;小林幹弘;藤田和宣;佐藤井一
通讯作者：
佐藤井一

Photocurrent characteristics of nanostructured thin films consisting of surface-modified silicon nanoparticles

表面改性硅纳米粒子组成的纳米结构薄膜的光电流特性

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
R. Yoshikado; T. Hasegawa; Y. Tanaka; S. Tsubota; S. Sato
通讯作者：
S. Sato

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作者：
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10.1038/s41598-021-01318-y
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2021
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影响因子：
4.6
作者：
Hashizume Shin;Nakano Masako;Kubota Kenta;Sato Seiichi;Himuro Nobuaki;Kobayashi Eiji;Takaoka Akinori;Fujimiya Mineko
通讯作者：
Fujimiya Mineko

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2019
期刊：
影响因子：
7.6
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Hamada;Naito Yutaka;Sato Seiichi;Takaoka Akinori;Kawashima Keigo;Isogawa Masanori;Ochiya Takahiro;Tanaka Yasuhito
通讯作者：
Tanaka Yasuhito

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2017
期刊：
影响因子：
0
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通讯作者：
Yamada Jun

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DOI：
10.1016/j.jjcc.2022.07.019
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
2.5
作者：
Yao Atsushi;Inuzuka Ryo;Mizuno Atsushi;Ishizu Tomoko;Miyake Makoto;Koitabashi Norimichi;Hasegawa;Sato Seiichi;Fujii Takanari;Ehara Eiji;Minamino Tohru;Yamada Hirotsugu;Yamashita Eiji;Kawamatsu Naoto;Masuda Keita;Soma Katsura;Shiraishi Isao;Naga
通讯作者：
Naga

Estimation of hole injection barrier at the poly-3(hexylthiophene)/metal interface using accumulated charge measurement

使用累积电荷测量估计聚 3（己基噻吩）/金属界面处的空穴注入势垒

DOI：
10.1016/j.orgel.2017.09.008
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
0
作者：
Tajima Hiroyuki;Yasukawa Naoto;Nakatani Hisaki;Sato Seiichi;Kadoya Tomofumi;Yamada Jun
通讯作者：
Yamada Jun